| 設備簡介: 化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業中應用廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環保科學等領域; |
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技術參數:
| 系統描述 |
產品型號 | NBD-T1700-80IT(G3Z) |
工作溫度 | ≤1650℃ |
加熱區尺寸 | 310mm |
恒溫區尺寸 | 220mm |
升溫速率 | ≤20℃/min |
電氣規格 | AC 220V 4.5KW |
控制系統 | |
氣體系統(可選購) | 流量計類型 | 浮子流量計 | 質量流量計 |
管道示意圖 | | |
進氣接口數量 | 2、3、4(多路可選) |
流量范圍 | 20-200/60-600l/min(多量程可選) | 50/100/200sccm(多量程可選) |
工作壓差范圍 | 0-0.15MPa |
低真空系統(可選購) | 真空泵型號 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C |
抽氣速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s |
進排氣口尺寸 | Φ8mm寶塔接頭 | Φ8mm寶塔接頭 | KF16/25 |
極限壓力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa |
工作溫度 | 5-40℃ |
電氣規格 | AC220V |
分子泵高真空系統 (可選購) | 分子泵系統型號 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) |
抽氣速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s |
真空測量計 | 復合真空計 |
極限壓力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa |
工作溫度 | 5-40℃ |
電氣規格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V |
* 支持非標定做,更多型號,歡迎來電垂詢 |
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