孚光精儀（中國）有限公司
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這款光刻是專業為半導體工藝和微電子激光處理設計的高性能深紫外,適合超凈間使用,滿足掩膜版檢測,紫外光刻,半導體處理,激光測量等應用要求
| 工作物質 | F2 | ArF | KrF | XeCl | XeF |
| 波長 nm | 157 | 193 | 248 | 308 | 351 |
| 能量. mJ | 3 | 20 | 35 | 15 | 15 |
| 能量范圍 mJ | 1-3 | 5-20 | 10-35 | 7-15 | 7-15 |
| 穩定能量200Hz | 2.5 | 15 | 30 | 15 | 12 |
| 平均功率W @300/600Hz | 0.6/1.2 | 4/7 | 6/12 | 3/6 | 3/6 |
| 穩定性標準偏移 | < 1% at max. repetition rate | ||||
| 重復頻率, Hz | 300/600/1000 | ||||
| 動態氣體壽命 | 200E6 | 200E6 | 500E6 | 100E6 | 300E6 |
| 靜態氣體壽命@ 50% 能量 | 15 days | 60 days | 90 days | >1 Year | 90 days |
| 脈寬, ns | 12-15 | ||||
| 光束大小, mm | 5X 3 | 8 X 3 | |||
| 光束發散角（全角）, mRad | 1 X 2 | ||||
| 制冷 | 空氣 | ||||
| 光學窗口服務間隔 | 500E6 | 300E6 | 1000E6 | 100E6 | 300E6 |
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