上海屹持光電技術有限公司
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除了人造金剛石太赫茲高阻抗本征硅基片材料是適合極寬范圍從（1.2 µm） 到mm （1000 µm甚至8000um）波的各項同性晶體材料。和人造金剛石相比，它要便宜的多，并且生長制造更容易。而且他尺寸更大，更容易制造，THZ技術的快速發展，就基于該優點。
太赫茲高阻抗本征硅基片產品介紹：
除了人造金剛石太赫茲高阻抗本征硅基片材料是適合極寬范圍從(1.2 µm) 到mm (1000 µm甚至8000um)波的各項同性晶體材料。和人造金剛石相比，它要便宜的多，并且生長制造更容易。而且他尺寸更大，更容易制造，THZ技術的快速發展，就基于該優點。對于THZ應用，我們提供在1000 µm (對于更長波長，3000甚至8000微米)透過率達到50-54%的High Resistivity Float Zone Silicon (HRFZ-Si)。高阻抗浮區本征硅材料，和相關光學元件。
合成電解質硅的介電常數由傳導率決定（例如：自由電子-載流子濃度）。圖3顯示的是在1THZ下，不同純度下的硅的介電常數.低摻雜的介電常數接近真實值，大約等于高頻介電常數。隨著摻雜濃度的提高，真實的介電常數將變成負數，而且不能被忽略。介電常數表征的是THZ波的傳輸損耗特性。損耗系數可以用下面的公式計算：tanδ=1/(ω*εv*ε0*R), 這里 ω – 圓頻率, εv – 真空下的介電常數（8.85*10-12 F/m）。ε0 –硅的介電常數(11.67), R是電阻值。例如，1THZ下，10 kOhm 阻值的HRFZ-Si損耗系數為1.54*10-5。
1mm厚度的高阻抗本征硅窗片的太赫茲時域光譜儀測試數據
高阻抗本征硅產品
- 高阻抗硅襯底/基片/窗片
- 高阻抗硅球透鏡
- 高阻抗硅分束鏡
- 高阻抗硅鏡頭
1，高阻硅基片 2，高阻硅F-P標準具 
3，高阻硅太赫茲半球透鏡 4，高阻硅太赫茲彈頭型透鏡
5，高阻硅鏡頭 6，高阻硅棱鏡
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