【儀表網(wǎng) 儀表產(chǎn)業(yè)】芯片制造所需的光刻機(jī)一直以來被荷蘭ASML公司壟斷，一臺(tái)精密光刻機(jī)售價(jià)上百億，而我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)起步較晚，光刻機(jī)技術(shù)與ASML的差距非常大。
 

　　ASML在7nm級(jí)別，而大族激光僅為μm級(jí)別(1μm是1000nm)。因?yàn)楣饪虣C(jī)每上一個(gè)臺(tái)階技術(shù)難度就會(huì)大大增加，可能從90nm升級(jí)到65nm并不難，但是從65nm升級(jí)到45nm，就是一個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)了，上升到7nm更是難上加難。
 

　　光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。而光刻機(jī)是中國(guó)芯片發(fā)展的大障礙。據(jù)有關(guān)媒體報(bào)道，光刻機(jī)正成為華為的第四場(chǎng)戰(zhàn)役。據(jù)悉，余承東在一次百人大會(huì)上的時(shí)候透露過，早在四年前，華為就已經(jīng)為接下來集團(tuán)的布局做好準(zhǔn)備了，他們?cè)?016年的時(shí)候就已經(jīng)成立了團(tuán)隊(duì)去研發(fā)光刻機(jī)，現(xiàn)在已經(jīng)取得了很大的進(jìn)展。
 

　　大族激光8月10日在互動(dòng)平臺(tái)表示，公司在研光刻機(jī)項(xiàng)目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的應(yīng)用，目前已接到少量訂單。
 

　　光刻機(jī)的品牌眾多，根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類：的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，光刻機(jī)號(hào)稱世界上精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺(tái)的光刻機(jī)。光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，*世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。
 

　　國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國(guó))，日本Nikon(intel曾經(jīng)購(gòu)買過Nikon的光刻機(jī))和日本Canon三*品牌為主。位于我國(guó)上海的SMEE已研制出具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī)，形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。
 

　　生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機(jī)為接近、接觸式光刻機(jī)，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國(guó)SUSS、美國(guó)MYCRO NXQ4006、以及中國(guó)品牌。