全程綜合水處理器
多相全程水處理器適用范圍
①*空調(diào)，冷水機(jī)組，制冷機(jī)；冷卻、冷凍循環(huán)水系統(tǒng)。
②采用系統(tǒng)：在供暖、供熱的熱水循環(huán)系統(tǒng)。
③工業(yè)、民用、冷卻水；在工業(yè)、民用、工藝?yán)鋮s循環(huán)水系統(tǒng)。
④公寓：生活洗浴熱水循環(huán)系統(tǒng)，餐飲、洗衣房、游泳池等。
⑤地?zé)崴到y(tǒng)：利用地?zé)崴M(jìn)行洗浴，采暖的循環(huán)系統(tǒng)。
多相全程水處理器產(chǎn)品簡(jiǎn)介
通過(guò)*實(shí)踐證明，在現(xiàn)今的水系統(tǒng)中普遍存在有結(jié)垢、腐蝕、污泥、微生物繁殖等四大主要危害。水系統(tǒng)尤其是循環(huán)水系統(tǒng)得水質(zhì)問(wèn)題往往是綜合性的。以往采用的水處理設(shè)備由于單臺(tái)設(shè)備功能的局限性無(wú)法全面解決，因此需要通過(guò)進(jìn)一步的實(shí)用技術(shù)加以解決。我公司通過(guò)采用高頻技術(shù)與電能磁場(chǎng)效應(yīng)的結(jié)合方式，針對(duì)電化學(xué)腐蝕、結(jié)垢、菌藻繁殖的不同問(wèn)題，采用多重頻段及靜電高壓組合，設(shè)計(jì)制造了綜程水處理器。
產(chǎn)品性能
1、防垢、阻垢
由主機(jī)產(chǎn)生電磁場(chǎng)和超聲波作用于水系統(tǒng)管路上，使管道內(nèi)水分子產(chǎn)生共振，把氫鍵締合的水分團(tuán)變成單個(gè)的極性，改變了水的活化性，這些極微小的水分子可以滲透、包圍、溶解、去除系統(tǒng)中的老垢，提高了水分子對(duì)鈣鎂離子、碳酸根離子等成垢組分的水合能力，起到阻止水垢形成的作用：同時(shí)，在電磁場(chǎng)和超聲波的作用下，使原有的水垢結(jié)晶逐漸變得松軟、脫落、溶解，從而達(dá)到除垢的目的。
2、防腐、防銹
氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕是水系統(tǒng)管道及設(shè)備腐蝕和生銹的主要原因，而在電磁場(chǎng)和超聲波的作用下，水垢得以控制和去除，溶解氧和水分子結(jié)合不易析出，從而抑制氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕的發(fā)生，起到良好的防腐阻銹的作用。
3、殺菌、滅藻
電磁場(chǎng)在工作時(shí)產(chǎn)生微電子流使細(xì)菌、藻類賴以生存的環(huán)境被破壞，并且溶解氧在電磁場(chǎng)和超聲波的作用下形成一些如O3，H2O2等對(duì)細(xì)菌、藻類具*殺傷力的物質(zhì)，起到殺菌滅藻的作用。
其一：地球上的生物一般只適應(yīng)地區(qū)表面的電場(chǎng)強(qiáng)度（130V/m），該處理器改變電場(chǎng)強(qiáng)度，改變或影響細(xì)菌的生理代謝，如基因表達(dá)程序、酶活性等，zui后導(dǎo)致細(xì)菌死亡。
其二：細(xì)胞膜有許多對(duì)外的離子通道，離子通道的調(diào)節(jié)直接影響細(xì)胞的功能和生命，處理器產(chǎn)生的外電場(chǎng)破壞了細(xì)胞膜上的離子通道，改變了調(diào)節(jié)細(xì)胞功能的內(nèi)控電流，影響細(xì)菌的生命，同時(shí)處理器形成強(qiáng)電場(chǎng)產(chǎn)生的高速運(yùn)動(dòng)的電子將細(xì)胞沖擊致死，達(dá)到殺菌的目的；
其三：電場(chǎng)處理水過(guò)程中，溶解氧得到活化，超氧陰離子自由基、羥基自由基、過(guò)氧化氫、單線態(tài)氧等活性氧，活性氧對(duì)微生物機(jī)體產(chǎn)生系列有害作用，造成有機(jī)體衰老，直至死亡。
4、超凈過(guò)濾
根據(jù)處理數(shù)量，在線反沖（過(guò)濾、反沖及排污同時(shí)進(jìn)行），綜合水處理器的工作原理是通過(guò)控制硬度垢及污垢二方面綜合來(lái)解決復(fù)合水垢的問(wèn)題，故綜合水處理器在系統(tǒng)正常運(yùn)行狀態(tài)下，可完成防垢除垢，防銹緩蝕、殺菌滅藻、過(guò)濾及排污，控制水質(zhì)的全過(guò)程處理的目的，同時(shí)器壁金屬離子收到抑制，對(duì)無(wú)垢系統(tǒng)具有防腐蝕作用。
技術(shù)參數(shù)
① 控制腐蝕率： ＜0.01毫米/年，過(guò)濾效率＞75%～98%、防垢除垢效率>95%,
滅菌滅澡>92%
② 壓力損失： ＜0.03～0.06Mpa
③ 工作電壓： 交流160V～240V
④ 安全絕緣電壓： 5000V
⑤ 消耗功率： ＜120W～600W
⑥ 工作環(huán)境要求： 溫度-25℃～+50℃ 相對(duì)溫度＜95%
⑦ 工作溫度（被處理介質(zhì)溫度）：-25℃～+90℃
⑧ 平均*工作時(shí)間：不小于60000小時(shí)
