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ETD-200小型金離子濺射儀特點:
靶（上部電極）：材料：金，
直徑：64mm，厚度：0.12mm(大約)
真空室：直徑：160mm，高：120mm
樣品臺（下部電極）：濺射面積：直徑：64mm，zui大放置樣品數(shù)量：16個
離子電流表：zui大電流：100mA
定時器：zui長時間：900S
zui高電壓： -1600V
電源開關(guān)
機械泵: 2升/每秒
可選：真空控制針閥
靶材可按用戶要求加工制作
相關(guān)詞:離子濺射儀;離子濺射
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| 產(chǎn)品名稱 | 參考價 | 地區(qū) | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
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| 小型離子濺射儀 | ￥20668 | 北京市 | 北京海富達科技有限公司 | 2022-12-22 | 在線詢價 |
| 離子濺射儀 | 面議 | 東莞市 | 東莞華雅檢測儀器有限公司 | 2025-05-09 | 在線詢價 |
| 韓國SAM公司離子濺射儀 | 面議 | 廣州市 | 廣州申控儀電科技有限公司 | 2025-03-26 | 在線詢價 |
| COWAQ S150RTL-1自動真空磁控離子濺射鍍膜儀 | 面議 | 杭州市 | 浙江納德科學(xué)儀器有限公司 | 2025-01-14 | 在線詢價 |
| 日立離子濺射儀MC1000 Ⅱ | 面議 | 北京市 | 北京思普特科技有限公司 | 2024-11-20 | 在線詢價 |
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