單晶圓清洗設備:該設備適用于薄晶圓（到80 μm）以及符合 SEMI單晶圓濕法工藝標準的晶圓。采用標準的濕法工藝對硅晶圓片進行清潔、去膠、刻蝕和光刻。全電腦自動控制方式,保護脆弱的薄晶圓在工藝流程中不受損毀。
蘇州華林科納半導體設備技術有限公司由*蘇州納米技術與納米仿生研究所與北京華林偉業(yè)合資成立。公司于2008年3月成立，投資4500萬元。主要從事半導體設備、太陽能光伏設備、液晶濕制程設備、真空設備等的研發(fā)、技術推廣和生產(chǎn)銷售。公司以中科院納米所的研究平臺和技術團隊為技術依托，整合華林偉業(yè)在相關行業(yè)多年的設備制造經(jīng)驗，研發(fā)生產(chǎn)中半導體設備。公司以品質為根本，以創(chuàng)新為突破點，走設備研發(fā)與工藝研究相結合的道路，使設備能夠滿足和較早的工藝。公司的研發(fā)團隊由張寶*士、王敏銳博士、張永紅博士等十多名在半導體、太陽能光伏及液晶行業(yè)有多年設備和工藝經(jīng)驗的專業(yè)人士組成。
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