大平臺工業顯微鏡配有大移動范圍的載物臺、落射照明器、平場無限遠長工作距離明暗場物鏡、大視野目鏡、圖像清晰，襯度好。是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、治金工業開發的，作為高級工業顯微鏡使用。可進行明暗場觀察、落射偏光、DIC觀察，廣泛用于工廠、研究機構、高等院校對硅片、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。
| 技術規格 | |
| 觀察頭 | 30°鉸鏈式三目（50mm-75mm） |
| 目鏡 | WF10×/25mm |
| WF10×/20mm,帶0.1mm十字分劃板 | |
| 轉換器 | 帶DIC插孔明暗場五孔轉換器 |
| 物鏡 | 平場無限遠長工作 距離明暗場物鏡：5×/0.1B.D/W.D.29.4mm 10×/0.25B.D/W.D.16mm 20×/0.40B.D/W.D.10.6mm 40×/0.60B.D/W.D.5.4mm |
| 平臺 | 雙層移動平臺 |
| 平臺尺寸: 350mm×310mm | |
| 移動范圍：250mm×250mm | |
| 濾色片 | 插板式濾色片（綠、藍、中性） |
| 調焦 | 粗、微動同軸調焦，采用齒輪齒條傳動機構 微動格值0.002mm |
| 光源 | 落射照明：帶孔徑光欄和視場光欄，鹵素燈12V/100W，AC85V-230V亮度可調節 |
| 偏光裝置 | 檢偏鏡可360度轉動，起偏鏡、檢偏鏡均可移出光路 |
| 檢測工具 | 0.01mm測微尺 |
| 可供附件 | 目鏡：WF15×/17mm、WF20×/12.5mm |
| 300萬、500萬、900萬、1400萬像素CMOS芯片數字攝像頭 | |
| 平場無限遠長工作距離明暗場物鏡:50×/0.55B.D/W.D.5.1mm、 80×/0.75B.D/W.D.4mm、100×/0.80B.D/W.D.3mm | |
| 二維測量軟件 | |
| 專業金相圖像分析軟件 | |
| DIC（10×、20×、40×、100×） | |
| 攝影裝置及CCD接口0.5×、0.57×、0.75× | |
| 壓平機 | |
| 彩色CCD 芯片 300萬，500萬，800萬像素攝像頭 | |
UB5000特點說明
1． 采用了UIS高分辨率、長工作距離無限光路校正系統的物鏡成像技術。
2． 拓展了物鏡的復用技術，無限遠物鏡與所有觀察法相兼容包括明暗視野法、偏光法，并在每一
觀察法中均提供高清晰的圖像質量。
3． 采用非球面Kohler照明，增加觀察亮度。
4． WF10X（Φ25）超大視野目鏡，長工作距離明暗場金相物鏡。
5． 可插DIC微分干涉裝置的轉換器。
