工業(yè)級(jí)低溫冷卻液循環(huán)泵是一種采用機(jī)械形式制冷的低溫液體循環(huán)設(shè)備，以下是關(guān)于它的詳細(xì)介紹：
工作原理
低溫冷卻液循環(huán)泵主要由壓縮機(jī)、冷凝器、蒸發(fā)器、循環(huán)泵等部件組成。其工作原理為：壓縮機(jī)對(duì)制冷劑進(jìn)行壓縮，使其溫度和壓力升高，成為高溫高壓的氣態(tài)制冷劑；隨后，氣態(tài)制冷劑進(jìn)入冷凝器，在冷卻介質(zhì)的作用下冷卻凝結(jié)成液態(tài)；液態(tài)制冷劑經(jīng)膨脹閥降壓后進(jìn)入蒸發(fā)器，在蒸發(fā)器內(nèi)吸熱蒸發(fā)，實(shí)現(xiàn)制冷效果；循環(huán)泵則驅(qū)動(dòng)冷卻液在系統(tǒng)中不斷循環(huán)，將熱量帶走，從而達(dá)到精確控溫的目的。
主要特點(diǎn)
1.制冷效率高：采用全封閉壓縮機(jī)制冷技術(shù)，能夠快速達(dá)到設(shè)定溫度，并保持穩(wěn)定運(yùn)行，提高工作效率。
2.溫度范圍廣：一般低的溫度可達(dá) - 40℃至 - 120℃之間，可滿足多種試驗(yàn)和工藝過程中對(duì)低溫環(huán)境的不同需求，如一些超低溫的化學(xué)反應(yīng)、材料性能測試等。
3.節(jié)能環(huán)保：運(yùn)用的制冷技術(shù)和節(jié)能設(shè)計(jì)，在運(yùn)行過程中能耗較低，碳排放也相對(duì)較少，符合綠色環(huán)保的要求。
4.運(yùn)行穩(wěn)定可靠：設(shè)備采用的控制系統(tǒng)和優(yōu)質(zhì)的材料制造，具有較高的穩(wěn)定性和可靠性，可長時(shí)間連續(xù)運(yùn)行，減少因設(shè)備故障導(dǎo)致的實(shí)驗(yàn)或生產(chǎn)中斷。
5.操作簡便：通常配備數(shù)顯溫度顯示和微電腦控溫系統(tǒng)，操作簡單便捷，易于維護(hù)，用戶只需按照說明書進(jìn)行操作即可完成設(shè)備的安裝、調(diào)試和使用。
應(yīng)用領(lǐng)域
1.實(shí)驗(yàn)室研究：在化學(xué)、生物、物理等實(shí)驗(yàn)室中，廣泛應(yīng)用于低溫反應(yīng)、材料制備、樣品保存等實(shí)驗(yàn)過程。例如，在化學(xué)合成中，一些對(duì)溫度要求苛刻的反應(yīng)需要在低溫環(huán)境下進(jìn)行，以提高反應(yīng)的選擇性和產(chǎn)率；在生物實(shí)驗(yàn)中，可用于細(xì)胞、組織的低溫保存等。
2.工業(yè)生產(chǎn)：在半導(dǎo)體、電子、制藥等行業(yè)中，用于精確控制生產(chǎn)過程中的溫度，確保產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。比如在半導(dǎo)體制造過程中，芯片的光刻、蝕刻等工藝需要在特定的低溫條件下進(jìn)行，以保證芯片的性能和精度；在制藥行業(yè)，藥品的合成、結(jié)晶等過程也需要嚴(yán)格的溫度控制。
3.醫(yī)療設(shè)備：在核磁共振成像（MRI）等醫(yī)療設(shè)備中，為設(shè)備提供穩(wěn)定的低溫環(huán)境，保證其正常運(yùn)行和圖像的清晰度；在冷凍手術(shù)等醫(yī)療過程中，用于提供所需的低溫條件。
使用注意事項(xiàng)
1.前期準(zhǔn)備：使用前應(yīng)在槽內(nèi)加入適量的液體介質(zhì)，如純水、酒精或防凍液等，介質(zhì)液面應(yīng)沒過槽內(nèi)制冷盤管并低于工作臺(tái) 20mm 為宜，以確保制冷效果和設(shè)備的正常運(yùn)行。同時(shí)，要確保電源符合設(shè)備要求，即 220V、50Hz，且電源功率大于儀器的總功率，電源必須有良好的接地裝置。
2.使用過程中：避免酸堿類物質(zhì)進(jìn)入槽內(nèi)，防止腐蝕盤管以及內(nèi)膽；應(yīng)將儀器安置于干燥通風(fēng)處，儀器周圍 300mm 內(nèi)無障礙物；經(jīng)常注意觀察槽內(nèi)液面高低，當(dāng)液面過低時(shí)，應(yīng)及時(shí)添加液體介質(zhì)；在低溫工作狀態(tài)時(shí)，不要開啟上蓋，手勿進(jìn)入槽內(nèi)，以防凍傷。
3.液體外循環(huán)時(shí)：要特別注意引出管連接處的牢固性，嚴(yán)防脫落，以免液體漏出。
4.使用完畢后：將所有開關(guān)置于關(guān)閉狀態(tài)，切斷電源，并做好儀器的清潔工作。對(duì)于長久不用的情況，需清空槽內(nèi)的介質(zhì)，并擦拭干凈，保持工作臺(tái)面和操作面板的整潔。
