本產(chǎn)品適用于材料及產(chǎn)品的應(yīng)力釋放,特別是晶圓或者微電子材料的應(yīng)力釋放。在高溫環(huán)境中,半導(dǎo)體及金屬材料極易氧化,所以需要抽真空與充氮?dú)饴?lián)動(dòng)加以保護(hù)。同樣的這些材料也更容易受到灰塵污染,100級(jí)甚至更高的潔凈度可保護(hù)這些材料不被污染。
潔凈度保證方式: 采用耐高溫高效過濾器, 過濾率0.3μm粒子99.97%以上。槽內(nèi)空氣在強(qiáng)制送風(fēng)機(jī)的驅(qū)動(dòng)下,每一次循環(huán)都通過過濾器,槽內(nèi)的顆粒逐漸的被過濾
氧濃度控制方式: 采用先抽真空后進(jìn)高純度N2置換槽內(nèi)空氣。
為提高生產(chǎn)效率,開始進(jìn)N2時(shí),2路N2同時(shí)進(jìn)入槽內(nèi),氧濃度到達(dá)后,變?yōu)樾?/p>
流量維持,且進(jìn)N2與排N2平衡的方式,既把槽內(nèi)的空氣、廢氣排走,又保證槽內(nèi)是
一微正壓,防止環(huán)境空氣進(jìn)入。
氧濃度控制方式: 采用先抽真空后進(jìn)高純度N2置換槽內(nèi)空氣。
為提高生產(chǎn)效率,開始進(jìn)N2時(shí),2路N2同時(shí)進(jìn)入槽內(nèi),氧濃度到達(dá)后,變?yōu)樾?/p>
流量維持,且進(jìn)N2與排N2平衡的方式,既把槽內(nèi)的空氣、廢氣排走,又保證槽內(nèi)是
一微正壓,防止環(huán)境空氣進(jìn)入。