等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線(xiàn)路板、LED、微流控、光電太陽(yáng)能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
u 7寸彩色觸摸屏中英文互動(dòng)操作界面，自動(dòng)控制監(jiān)測(cè)工藝參數(shù)狀態(tài)，20個(gè)配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)追溯。
u PLC工控機(jī)控制整個(gè)清洗過(guò)程，手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式。
u 石英真空艙，真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無(wú)污染。
u 采用質(zhì)量流量計(jì)，實(shí)現(xiàn)對(duì)氣體輸入精準(zhǔn)控制，改變傳統(tǒng)浮子流量計(jì)控制氣體流量不準(zhǔn)確問(wèn)題。
u HEPA高效過(guò)濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。
u 60度傾角操作界面設(shè)計(jì)，符合人體功能學(xué)，操作方便，界面友好。
u 頂置真空艙，上開(kāi)蓋設(shè)計(jì)，下壓式鉸鏈開(kāi)關(guān)方式，開(kāi)關(guān)蓋方便。
u 采用花灑式多孔進(jìn)氣方式，改變傳統(tǒng)等離子清洗機(jī)單孔進(jìn)氣不均勻問(wèn)題。
u 上置式360度自由水平取放樣品托盤(pán)設(shè)計(jì)，符合人體功能學(xué)，操作更方便。
u 有效清洗面積大，可清洗直徑8吋硅片。
u 安全保護(hù)，艙門(mén)打開(kāi)，自動(dòng)關(guān)閉電源。
G系列產(chǎn)品專(zhuān)為處理更大樣品尺寸而設(shè)計(jì)，滿(mǎn)足大部分實(shí)驗(yàn)室和中試生產(chǎn)模擬生產(chǎn)條件要求。
技術(shù)參數(shù)：
型號(hào) | 10系列 | 10plus | C10M | Mplus | G系列 | Gplus | |
射頻電源 | 40KHz | 13.56MHz | 40KHz | 13.56MHz | 40KHz | 13.56MHz | |
射頻功率 | 10-600W | 10-300W | 10-600W | 10-300W | 10-600W | 10-150W | |
匹配器 | 自動(dòng)匹配 | 自動(dòng)匹配 | 自動(dòng)匹配 | ||||
激發(fā)方式 | 電容式 | 電容式 | 電容式 | ||||
氣體控制 | 雙浮子流量計(jì) | 單路MFC（可選兩路） | 單路MFC（可選兩路） | ||||
艙體尺寸 | L300Xφ215mm | L300Xφ215mm | H100xΦ269mm | ||||
艙體容積 | 10.8L | 10.8L | 5.6L | ||||
艙體材質(zhì) | 不銹鋼 | 不銹鋼 | 石英玻璃 | ||||
有效處理尺寸 | L300xW215mm | L300xW215mm | Φ269mm 圓盤(pán) | ||||
時(shí)間設(shè)定 | 9999秒 | 9999秒 | 9999秒 | ||||
真空泵 | 抽速8m3/h | 抽速8m3/h | 抽速4m3/h | ||||
氣體穩(wěn)定時(shí)間 | 1分鐘 | 1分鐘 | 1分鐘 | ||||
真空度 | 100pa以?xún)?nèi) | 100pa以?xún)?nèi) | 100pa以?xún)?nèi) | ||||
電 源 | AC220V 50/60Hz 766/466W | AC220V 50/60Hz 752/452W | AC220V 50/60Hz 752/302W | ||||
產(chǎn)品尺寸 | L645xW550xH495mm | L645xW550xH495mm | L425xW480xH445mm | ||||
包裝尺寸 | L750xW700xH720mm | L750xW700xH720mm | L550xW630xH700mm | ||||
整機(jī)重量 | 55kg | 55kg | 30kg | ||||
