偏振光觀察的新標準
使用UIS2光學系統和出色的光學設計組合的奧林巴斯BX53-P偏光顯微鏡在偏光應用時提供了出色的性能。可擴展的補償器使BX53-P有足夠多的功能來處理任何相關領域中的觀察和測量應用。
UIS2光學元件提供了出色的可擴展性
UIS2光學系統防止了光學顯微鏡性能的降低，消除了對顯微鏡光學放大倍數的影響，即使在光路中插入偏光元件，比如起偏振片、色板或補償器。在保持高水平系統靈活性的同時，BX53-P也兼容BX3系列系統顯微鏡的中間附件，以及相機和成像系統。
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Zonal structure of Plagioclase in quartz diorite. *Scales Indicate actual size of sample | Optical texture of MBBA *Scales Indicate actual size of samples |
正交鏡和錐光鏡成像中的銳利圖像
使用U-CPA錐光鏡觀察附件后，正交偏光和錐光鏡觀察之間的切換簡單而快捷。錐光鏡成像的聚焦輕松而準確。勃氏透鏡視場光闌的使用使其可以持續獲取銳利而清晰的錐光圖像。
種類多樣的補償器
BX53-P顯微鏡可以使用6種不同的補償器，能夠測量多種水平延遲，范圍從0到20λ。為使測量更容易，還提供了直接讀數法。使用Senarmont*或Brace-Koehler補償器可以獲得更高的圖像對比度，以改變整個視野里的延遲水平。
* 與綠色濾色片IF 546或IF 550。
觀偏光性能升級
ACHN-P和UPLFLN-P物鏡中使用的精巧設計和生產技術與顯微鏡結合。BX53-P偏光顯微鏡在起偏振片和檢偏振片里配備了高EF值濾色片，提供了出色的圖像對比度。為滿足研究和應用的多樣化要求，新型UPLFLN-P系列物鏡采用了適用于多種觀察方法的設計，包括Nomarski DIC和熒光顯微鏡觀察以及偏光觀察。
* EF（衰減系數）是平行和交叉偏光濾色片之間的亮度比。EF值越高，消光效果就越好。
