三溫區PECVD系統

產品描述：

該爐由_{TL1200真空管式爐}、石英真空室、射頻電源、_{GX供氣系統}、_抽氣系統、真空測量系統組成。采用雙層殼體結構，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，抽真空時真空度能夠達到10^-3Pa。該爐安裝有行程開關，當爐蓋打開時會自動切斷電源。該爐通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高所需的溫度更低。

技術參數：

1.額定溫度：1100℃                     2.溫度：1200℃                         3.電壓：220V

4.加熱段：205mm+205mm                  5.溫控方式：智能化30段可編程控制           6.熱電偶：K型        

7.加熱元件：瑞典Kanthal-A1電阻絲

8.升溫速率：≤30℃/min    推薦升溫速率：≤15℃/min       

9.等離子射頻電源：輸出功率：50-500w可調±1% 穩定性

頻率：13.56MHz ±0.005%

噪聲：<50dB

冷卻：空氣冷卻

輸入功率：AC 220V，500W       

10真空泵和閥門：采用KF25系列波紋管和精密球閥連接

真空度可達10-3Pa

數字真空壓力表可直觀的顯示數值

11.質量流量計：內部裝有高精度數字顯示質量流量訓科準確的控制氣體流量

氣體流量范圍為0-200sccm，誤差：0.02%

一個氣體攪拌罐上安裝了液體釋放閥的底部情況

不銹鋼針閥安裝在左側可手動控制混合氣體輸入的數量

進氣口：采用國際標準雙卡套接頭