真空石墨爐(單溫區)：該設備廣泛應用于無機材料(如陶瓷密封件、碳化硅、氧化皓、氧化鋅、氧化鋁等)、及金屬材料(如硬質合金)在真空或保護氣氛中燒結制備，也可用于稀土元素及其氧化物的提純處理及藍寶石退火處理。

爐門采用帶水冷卻的雙層結構，與法蘭組焊成一個整體，采用SUS304材質，內表面精密拋光處理，外表面噴砂處理。爐門上設有冷卻水進出口、觀察窗等。爐門與爐體連接采用特制的鉸鏈，該鉸鏈由鋼板焊接加工，爐門開啟方便。

真空石墨爐(單溫區)加熱采用高純石墨作發熱體，呈方形四周排布，保證溫場的穩定性，且高純石墨純度高，無揮發，有效保證爐腔內的清潔度。電氣控制系統可實行自動控溫，PID 帶有自整定功能。

設備常見溫度為2000℃、2200℃、2400℃，冷態真空度為6.67×10-3Pa、立式或底升式工作區可分為∅80×100mm、∅160×160mm、∅200×1200mm、∅250×250mm、∅320×3200mm等規格。我司可根據用戶需求，定制非標產品。

電路設有斷水、過流、爐超溫及水超溫報警及保護功能。

爐內設有充氣超壓防爆系統。

結構緊湊，布局合理。

人性化設計，合理配置。