立式真空氣氛爐潔凈款
采用高純石英反應腔，可實現高真空條件。包裹型環繞加熱，升溫快、控溫準、溫場均勻。
廣泛應用于硬質合金、陶瓷、粉末冶金等材料在粗真空狀態、還原性氣氛、保護氣氛下的熱處理。另配置我司自主研發的觸屏控制系統，提高工作效率。爐膛可根據用戶實際需求加工定制。
設 立式真空氣氛爐潔凈款
設 設備特點：
1.高純石英內腔，可實現高真空實驗條件；
2.包裹型環繞加熱設計，升溫快、控溫準、溫場均勻；
3.真空、氣氛燒結均可。
4.控制穩定可靠，操作方便，安全防護措施完善。
5.采用PID自學習模糊控制，控溫精度高，保持在±1℃。
6.爐襯采用高純氧化鋁輕質纖維材料，保溫效果更好，節能降耗。
7.具有物聯網功能（WIFI），可通過手機、電腦遠程對設備進行監控，操作。
8.數據存儲功能，可保存燒結的重要參數，時長達30天之久（每天開機8小時）。
9.配方功能，可預存配方20條。
10.聯網功能，通過RJ45接口，采用TCP/IP協議，可以讓系統與上位機相連（上位機需安裝相應軟件）。
