無錫吉致電子25年研發(fā)生產——射頻濾波器拋光液 /半導體拋光液 /CMP拋光液/CMP化學機械拋光液/射頻濾波器Slurry/射頻濾波器CMP化學機械拋光液Slurry/射頻濾波器CMP集成電路拋光液/射頻濾波器拋光液拋光漿料Slurry

產品名稱：射頻濾波器拋光液/半導體拋光液/CMP化學機械拋光液

產品簡介：射頻濾波器拋光液適用于集成電路當中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。

具有高的銅去除速率，碟型凹陷可調，低缺陷等特性。可應用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產使用。清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學物殘留，以防銅表面腐蝕，降低表面缺陷。

我司產品優(yōu)點： 

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。

3.運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無粉塵產生，關注環(huán)保和人體健康安全。

可定制化：我們的拋光液可以根據客戶需求定制不同的PH、粒徑、濃度、穩(wěn)定離子等。

包裝方式：25KG/桶(也可依客戶需求)