高真空退火爐 半導體退火爐
一、設備結構:
1、操作方式:左(右)手操作方式
2、硅片尺寸:圓形6寸片
3、工藝布局:滿足客戶工藝要求
4、自動化程度:工控機控制系統(tǒng)自動控制工藝流程
5、送取片方式:手動進出舟。
6、外形:主機1臺，主機架為臥式兩管。
二、主要技術參數:
1、加熱爐管有效口徑:滿足6英寸硅片。可向下兼容5寸和4寸硅片。
2、工作溫度范圍: 上管:600~1400℃
下管:200~500℃
3、恒溫區(qū)長度及精度:600mm，
上管:800-1400℃.±0.2℃/24h
下管:200-500℃.±0.2℃/24h
4、控制方式:由工控機統(tǒng)一管理工藝
5、氣路設置:每管兩路氣體:氮氣100L/min.氬氣100L/min。均采用MFC自動控制流量大小。晨立公司擁有十幾年的專業(yè)研發(fā)制造經驗。自成立以來，堅持產品設計和服務質量共同發(fā)展，積極進取，精益求精，不斷提高產品核心競爭力。公司產品擁有自主產權。已擁有2項實用新型zhuanli，2項發(fā)明zhuanli正在申請中。有5名中、高級職稱的工程師組成專業(yè)的研發(fā)團隊，從事熱工行業(yè)近20年之久，有豐富的生產制造經驗。
公司本著和諧、共贏，以“質量求發(fā)展、以誠信為根本、以客戶為中心、以用戶滿意”為最終目標的企業(yè)方針，為客戶提供優(yōu)質的產品，優(yōu)良的服務。
高真空退火爐 半導體退火爐
