規格型號：BV-HTRV-1800攝氏度布里奇曼晶體生長爐

設備說明：

根據布里奇曼方法，用于晶體生長的管式爐V-

HTRV管式爐，裝有垂直支架系統，晶體可根據布里奇曼方法生長。布里奇曼方法是用預合成材料緩慢地下降，通過一個具有溫度梯度的區間。被融化的材料通過一個較低的溫度梯度區間， 形成單晶。BV-HTRV管式爐裝有用于布里奇曼方法的特殊設計的結構。標準型號，如HTRV 70-250或HTRV 100-250的工作管裝在一個升降裝置上。需要注意的是，所有的管式爐都可以裝這個裝置。常見的有二種爐型，HTRV 70-250和HTRV 100-250。優勢在于加熱區短，根據布里奇曼方法，可獲得較理想的溫度梯度。溫度向管式爐底部遞減。拉伸機構向著低溫區的位移速度可調。樣品熱電偶緊靠著樣品，能準確了解樣品的溫度。樣品和控溫熱電偶安裝在升降裝置底部。裝載和卸載時，機構可快速反應。或者根據用戶的晶體生長速度移動。樣品熱電偶和控溫熱電偶在陶瓷工作管附近。工作管兩端是水冷法蘭。工作管上面的法蘭是固定的，底部的螺紋管，連接著工作管和升降裝置。當樣品向下移動時，螺紋管開始延伸。即使在真空下，樣品也可以向下移動。工作管頂部是連接著真空泵。真空閥門可手動開關。真空度由壓電陶瓷真空計控制。惰性氣體流量由轉子流速計手動控制。為了在工藝開始前降低氧含量，需要進行反復多次的預抽真空和惰性氣體沖刷。該系統可以連接計算機，可記錄運行時的所有數據。如，樣品位置；熱電偶溫度。裝載和卸載樣品時，夾具須打開。機構可現實快速移動，樣品方便拿取。

升降裝置用于布里奇曼晶體生長，同時可結合不同的單區或多區控溫管式爐。

優勢：

※布里奇曼方法----晶體生長

※真空環境高工作溫度：1450攝氏度

※惰性氣氛環境高工作溫度：1800攝氏度

※拉伸機構精度高

※手動操作

※可選數據記錄功能HTRV-1800攝氏度

典型應用

布里奇曼方法單晶生長

詳細技術信息

HTRV管式爐的加熱元件是二硅化鉬，垂直安裝。矩形爐殼內的保溫材料為真空成型的纖維板。爐殼上還有用于同外部對流冷卻的孔。考慮到樣品的熔點，爐子的高溫度有1600，1700，1800攝氏度。升降裝置的二個馬達，可實現不同的齒輪比。如：可達到約10毫米/秒的移動速度；鑒于布里奇曼生長工藝，拉伸速度僅為10納米/秒。水冷法蘭的水管都套在護套內。控溫熱電偶型號為B型。可根據要求選配過溫保護器。推薦安裝過溫保護器，因為晶體生長工藝時間長，多數處于無人看守的狀態。

如果布里奇曼晶體生長所需的溫度要高于1800攝氏度，卡布萊特蓋羅可提供合適的解決方案。可見下一章節的晶體生長爐。

可選項根據要求，提供各種軟件和硬件方面的可選項。原則上所有的管式爐可被用于布里奇曼方法的晶體生長。

※過溫保護器型號為歐陸控制器

※高真空泵單元

※水冷機，如果現場沒有冷卻水

※額外的氣體接口及閥門和轉子流速計

※熱電偶，位于樣品邊