離子拋光技術通常采用惰性氣體 氬，通過將氬氣離子化后，在電場 加速作用下轟擊到樣品表面，利用 動量轉移的方式進行可控速率條件下，物理濺射轟擊的方式對樣品表面進行精細拋光處理，滿足掃描電 鏡/EBSD等表面敏感分析技術制樣需求子拋光技術通常采用惰性氣體 氬，通過將氬氣離子化后，在電場 加速作用下轟擊到樣品表面，利用動量轉移的方式進行可控速率條件 下，物理濺射轟擊的方式對樣品表 面進行精細拋光處理，滿足掃描電鏡/EBSD等表面敏感分析技術制樣需求。
? 兩支獨立可調電磁聚焦離子槍
? 同時具備高能量(快速拋光)和低能量(精細修復)
? 超寬加速電壓范圍：100eV到10kV，不同加速電壓下， 離子束束斑均保持最細束斑狀態
? 每支離子槍均配備對應法拉第杯進行離子束直接探測
? 采用可調節10英寸觸屏控制系統，人機界面友好，操作 簡潔
? 配備橫截面切割裝載及定位工具
? 配備磁編碼器，帶有樣品測厚功能，自動匹配拋 光位置，保證的拋光質量和效率
? 拋光角度范圍：0°到 +10°連續可調
? 具備原位實時觀察及記錄拋光過程功能
? 樣品可360°連續旋轉或搖擺，離子束自動避讓樣品夾
? 可通過時間或溫度自動停止
? 可選液氮冷臺配置，去除熱效應對樣品的損傷
? 可選真空或惰性氣體轉移裝置，隔絕樣品與水氧接觸
| Model 1061 SEM Mill 技術規格 | |
| 離子源 | 兩支TrueFocus電磁聚焦離子源 可變能量范圍100 eV到10 keV ，束流 密度可達10 mA/cm2 拋光角度 0° 到 +10?連續可調可 選擇單槍或雙槍工作模式 兩支離子槍能量可獨立調節 可選手動或自動馬達離子槍 離子束束斑大小300μm —5mm連續可調 |
| 樣品臺 | 樣品尺寸: 橫截面切割：Max 25x10x7mm 平面拋光：32mm直徑 x 25mm 高 360? 旋轉且轉速可調，同時樣品臺可搖擺 磁編碼器提供定位精度 |
| 液氮冷臺 | 可選液氮冷臺升級，冷卻時間分為3-5小時 和18小時以上兩種 溫度<-170℃~室溫，具備自動程序化控溫設計 |
| 拋光速率 | 500μm/Hr(Si@10keV) |
| 真空系統 | 80L/s分子泵加多級無油隔膜泵 配有寬量程規，無需清潔 |
| 真空轉移 | 可選真空轉移或惰性氣體保護下轉移升級 |
| 氣源 | 99.999%高純氬氣，使用壓力 15 psi 配備精確氣體質量流量計 |
| 人機界面 | 10英寸觸屏設計，可實現配方編程控制 可選遠程燈光指示器 |
| 電源 | 220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W |
| 尺寸/重量 | 68cm(W)X55cm(H)X 54cm(D)，73kg |
