EDK 6900P 便攜式TDL激光微量氣體分析儀
原理
EDK系列產(chǎn)品采用增強(qiáng)型TDLS技術(shù)，0.1nm的掃描波長(zhǎng)，避免目標(biāo)被測(cè)氣體吸收波長(zhǎng)的交叉干擾，也可稱為“指紋光譜”，可實(shí)現(xiàn)高分辨率的近紅外吸收測(cè)量。電子鎖相技術(shù)實(shí)現(xiàn)從光電信息中提取并分離出被測(cè)氣體的吸收信息，此種檢測(cè)方法，不需要物理參考池，且提供了連續(xù)的傳感器狀態(tài)監(jiān)測(cè)。EDK TDL6900系列產(chǎn)品提供了高精度、低檢測(cè)限的解決方案，儀器具有對(duì)被測(cè)氣體高準(zhǔn)確度選擇性進(jìn)行非接觸式測(cè)量、免標(biāo)定、低成本、易操作等特點(diǎn)。
EDK TDL6900系列產(chǎn)品可以輕松測(cè)量一些常規(guī)方式不易測(cè)量的微量氣體，比如NH3、CH4、CO2、H2O等，這些氣體的監(jiān)測(cè)與分析在很多工業(yè)場(chǎng)合至關(guān)重要。高靈敏度和寬的動(dòng)態(tài)量程，是可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器光譜（TDLS）技術(shù)的基本特性，可用于測(cè)量sub-ppm到%范圍的氣體。
目標(biāo)氣體 | 檢測(cè)限 | 典型量程 |
NH3,(H2O)氨 (高溫高濕工況) | 0.2 ppm | 0～20,50,100,(500)ppm |
HCl,(H2O) (高溫高濕工況) | 0.4 ppm | 0～50,100,(500)ppm |
NH3氨 | 0.1 ppm | 0～100(500)ppm |
CH4甲烷 | 0.4(1,000)ppm | 0～1000(40,000)ppm |
其他氣體可定制 | ||
**檢測(cè)限是在恒溫恒壓恒濕20℃,1013 hPa、50±1.5%r.H.條件下。系統(tǒng)溫度的突然變化導(dǎo)致的檢測(cè)限變化要快于濃度的變化，全程高溫伴熱220℃ | ||
準(zhǔn)確度 | <2%FS根據(jù)積分穩(wěn)定性（溫度&壓力）而定 | |
量程漂移 | 超過八小時(shí)每周期---在準(zhǔn)確度內(nèi) | |
溫度誤差 | <0.1讀數(shù)/℃ | |
線性/重復(fù)性 | <1%FS（多點(diǎn)標(biāo)定），<2%FS(單點(diǎn)標(biāo)定) | |
