海城市基本型二氧化氯發(fā)生器是一種集化學反應、精密計量、精確電子控制、閉環(huán)電子監(jiān)視系統(tǒng)為一體的精密可靠的高科技產(chǎn)品，整個系統(tǒng)主要由精密計量泵、反應器及流量監(jiān)視系統(tǒng)組成，采用整機集成為一體的集成安裝方式，因此結(jié)構(gòu)緊湊，安裝方便，性能可靠，維護容易。
基本型二氧化氯發(fā)生器產(chǎn)品性能：
1. 采用化學法負壓曝氣工藝，結(jié)構(gòu)合理，可靠性強，故障率低，使用壽命長；
2. 采用主機、料罐整式設計，體積小（占地面積0.5－1.2平方米）、重量輕、操作簡單、維修方便，安裝容易，運行費用低。
3. 供料系統(tǒng)采用滴定閥，顯示直觀，加藥量可手動調(diào)節(jié)。
4. 溫控系統(tǒng)采用自動恒溫控制，具有缺水、短路保護及超溫報警等功能。
5. 電氣元件較少，無易損件，故障率低。
6. 投加系統(tǒng)利用壓力水，可實現(xiàn)發(fā)生器與動力水的聯(lián)動控制。
7. 穩(wěn)定型好，經(jīng)濟實用。適用于處理規(guī)模小、對自動化要求不高的水處理場合。
應用范圍
1、各種場合下的生活、飲用、自來水的消毒;
2、餐廳、賓館、家庭、餐具衛(wèi)生設施的滅菌消毒和空氣環(huán)境消毒等。
3、食品、飲料廠、發(fā)酵工業(yè)的設備、管道、容器的最終滅菌消毒。
4、乳品廠、屠宰場的管道、設施及環(huán)境的滅菌處理;
5、污水的滅菌消毒處理;
6、游泳池、工業(yè)循環(huán)水、浴池水的滅菌消毒;
7、、衛(wèi)生、臨床器械的消毒、滅菌、除臭的防霉處理;
8、家庭、賓館、飯店、水果蔬菜、魚肉等食品的保鮮及最終淋洗消毒;
9、配置各種口腔消毒液、除臭劑及創(chuàng)口清洗液等。
10、廢水回用中的滅菌及脫臭;
11、面粉與各種食品的漂白劑;
12、造紙、印染行業(yè)的漂白藥劑;
13、電鍍含氰廢水的破氰處理、印染廢水的脫色處理，工業(yè)徨冷卻水的除藻滅菌處理。
海城市基本型二氧化氯發(fā)生器基本要求
1)、基本型二氧化氯發(fā)生器的反應系統(tǒng)應設置安全防爆裝置。
2)、各管道應無泄漏現(xiàn)象。
3)、原料液輸送應有連動裝置。
4)、發(fā)生器運行時所用原料應符合相應國家標準的規(guī)定。
技術(shù)要求
基本型二氧化氯二氧化氯消毒劑發(fā)生器
1. 基本型二氧化氯發(fā)生器的二氧化氯產(chǎn)量應不低于額定值;
2. 發(fā)生器產(chǎn)生的消毒劑溶液中，二氧化氯(以有效氯計)占總有效氯的質(zhì)量百分數(shù)不小于95%;
3. 主要原料如亞氯酸鈉的轉(zhuǎn)化率不低于80%。
二氧化氯復合消毒劑發(fā)生器
1. 基本型二氧化氯發(fā)生器的有效氯產(chǎn)量應不低于額定值;
2. 基本型二氧化氯發(fā)生器產(chǎn)生的消毒劑溶液中，二氧化氯(以有效氯計)占總有效氯的質(zhì)量百分數(shù)不小于55%;
3. 主要原料如氯酸鈉、亞氯酸鈉的轉(zhuǎn)化率不低于60%。
3)、在正常工況下，基本型二氧化氯發(fā)生器的使用壽命不小于5 年，平均工作時間不少于8000h。
4)、基本型二氧化氯發(fā)生器在正常工況下應具備良好的密封性，發(fā)生器在室內(nèi)使用時(具備良好的通風條件，環(huán)境溫度以5℃~40℃為宜)，室內(nèi)環(huán)境中CL2濃度應符合HJ/T 30的規(guī)定，其最大允許濃度應小于1mg/m。
5)、用于飲用水時，消毒后水中的亞氯酸根、氯酸根等原料殘留物的總量應不大于0.7mg/L。
控制要求
控制系統(tǒng)可根據(jù)水質(zhì)變化自動定比調(diào)節(jié)投藥量，并且設有缺水停機，無藥停機等各種安全保護設施。基本型二氧化氯二氧化氯發(fā)生器在電磁流量計的控制下，全自動恒定比例加藥，實現(xiàn)全自動無人控制，并實現(xiàn)數(shù)據(jù)遠傳，具有遠程通訊接口可與DCS計算機通訊。
施工安裝
1)、基本型二氧化氯發(fā)生器與配電裝置宜分室放置，房間內(nèi)應有AC220V交流電源
2)、基本型二氧化氯發(fā)生器產(chǎn)生的氫氣應排出室外，其關(guān)口應遠離火源，操作間照明用安全防爆燈，室內(nèi)應具有良好的通風設施。
3)、基本型二氧化氯發(fā)生器有進水口接口，出消毒液接口，外接管路直徑應與之一致，消毒液口需裝一止回閥。
4)、進水管路可用鐵管或塑料管，出藥管路須用聚氯乙烯或ABS塑料管。
5)、基本型二氧化氯發(fā)生器旁應有給水排水設施。
6)、注意設備接地保護等問題。設備間內(nèi)應有排水設施。且設備間應設簡單防腐地面。
7)、應有大于0.3Mpa的自來水水源。
