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簡介

橢偏儀——SE200BA-M300
橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質。橢偏儀的主要原理是將自然光（紫外光、可見光以及紅外光）變成偏振光后通過一定角度入射到樣品上，偏振光進入樣品介質后會反射回到橢偏儀檢偏器內，由于樣品介質會對偏振光的偏振態發生改變，而這種改變會被橢偏儀測量，橢偏儀就是利用這個介質對偏振光性質改變的原理來表征介質的性質的。

SE200BA-M300型號實現250nm到1000 nm超長波段的探測，可實現對材料紫外、可見和紅外波段的全覆蓋測量研究，同時可搭配自動平臺掃描、自動變角、微光斑探測以及平臺加熱等功能滿足不同應用需求。

系統配置:

型號：SE200BM-M300

探測器：陣列探測器

光源：高功率的DUV-Vis-NIR復合光源

測量角度變化：手動調節

平臺：ρ-θ配置的自動成像

軟件：TFProbe 3.2版本的軟件

計算機：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

電源：110–240V AC/50-60Hz，6A

保修：一年的整機及零備件保修

波長范圍：250nm到1000 nm

波長分辨率: 1nm

光斑尺寸：1mm至5mm可變

入射角范圍：0到90度

入射角變化分辨率：5度間隔

樣品尺寸：zui大直徑為300mm

基板尺寸：zui多可至20毫米厚

測量厚度范圍*：0nm?10μm

測量時間：約1秒/位置點

精度*：優于0.25％

重復性誤差*：小于1 ?

規格參數

波長范圍：250nm 到 1000 nm
波長分辨率: 1nm
光斑尺寸：1mm 至 5mm 可變
入射角范圍：10 到 90 度
入射角變化分辨率：0.01 度
樣品尺寸：zui大直徑為 300mm
基板尺寸：zui多可至 20 毫米厚

選項配置:

用于反射的光度測量或透射測量；

用于測量小區域的微小光斑；

用于改變入射角度的自動量角器；

X－Y成像平臺(X-Y模式，取代ρ-θ模式)；

加熱/致冷平臺；

樣品垂直安裝角度計；

波長可擴展到遠DUV或IR范圍；

掃描單色儀的配置；

聯合MSP的數字成像功能，可用于對樣品的圖像進行測量等。

功能圖解

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