金靶材蒸鍍鍍膜膜厚檢測KT-Z1650CVD，臺式設計、軟件自動操控、高性價比，非常適合實驗室科研使用。
通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發鍍膜，熱蒸發鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發鍍膜機一般主要用于蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下為蒸發鍍膜設備的示意圖。
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜 
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
★ 玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發狀態和薄膜沉積現象觀察；
★ 復合分子泵和直聯旋片泵，大抽速準無油真空系統（分子泵抽速≥400L/S）；
★ 兩組水冷式蒸發電極，可長時間穩定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發源設計；
★ 專業真空蒸發電源，數顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 可調速旋轉靶臺使薄膜更均勻
★ 可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO3, LiF等）及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 7寸顯示器定時定點調節電流，達到控制功率效果
★ 具有記憶儲存功能，直接調出已儲存的數據進行鍍膜達到同樣工藝效果
★ 配置了靶臺擋板，可手動調節或自動調節擋板，及時遮擋樣品，保證樣品效果
金靶材蒸鍍鍍膜膜厚檢測技術資料
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數字式功率調整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最1大功率 | ≤1200W |
最1大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （最1大可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品蒸發源調節距離 | 70-140mm |
蒸發溫度調節 | ≤1800℃ |
支持蒸發坩堝類型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
技術支持&服務：
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