UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。本機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。
| 技術(shù)參數(shù)性能指標(biāo) | ||||
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| 產(chǎn)品型號(hào) | UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī) | |||
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來(lái)水及排水 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：無(wú) 4、工作臺(tái)：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：不需要 | |||
| 主要特點(diǎn) | 1、設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。 2、中心加載壓力，壓力穩(wěn)定可靠。 3、性能優(yōu)良，操作簡(jiǎn)單，適用范圍廣。 | |||
| 技術(shù)參數(shù) | 1、電源：220V 50Hz 2、載物盤：?150mm 3、桃型孔：?25.4mm 4、磨拋盤：?250mm 5、載物盤（上盤）轉(zhuǎn)速：10rpm-80rpm（無(wú)級(jí)調(diào)速） 6、磨拋盤（下盤）轉(zhuǎn)速：50rpm-400rpm（增量調(diào)速，最小增量10） 7、壓力：0.5kg-20kg（最小增量0.5kg） | |||
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：780mm×590mm×750mm；重量：100kg | |||
| 標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 鑄鋁拋光盤 | 2個(gè) | |
| 2 | 平載物盤 | 1個(gè) | ||
| 3 | 桃型孔載物盤 | 1個(gè) | ||
| 4 | 磁力片 | 4片 | ||
| 5 | 研拋底片 | 6片 | ||
| 6 | 砂紙（240#、400#、800#、1500#） | 各2片 | ||
| 7 | 拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯） | 各2片 | ||
| 8 | 金剛石拋光膏（W2.5） | 1支 | ||
| 可選配件 | 1、SKZD-2滴料器 2、SKZD-3滴料器 3、SKZD-4自動(dòng)滴料器 4、YJXZ-12攪拌循環(huán)泵 5、精密測(cè)厚儀 6、GPC-50A精確磨拋控制儀 7、陶瓷研磨盤 8、玻璃研磨盤 | |||
