SAMCO二手翻新ICP刻蝕機RIE-400iPC,是高密度等離子體蝕刻系統,采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統配備了真空盒室,是一個具有優良工藝重復性和穩定性的全規模生產系統。該系統是直徑4英寸等小直徑晶圓的專用系統,可以在最小的潔凈室空間內安裝。
主要特點和優點
新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"
可高效穩定地應用高射頻功率(2千瓦以上),并實現良好的均勻性。
大流量排氣系統
排氣系統直接連接到反應室,可以實現從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。
端點監測
干涉法和發射光譜終點監測儀可用于目標薄膜厚度的終點檢測。
易于維護的設計
TMP(渦輪分子泵)已集成在一個單元中,便于更換。
應用
GaN、GaAs、InP等化合物半導體的高精度加工
SiC、SiO?的高速加工
蝕刻鐵電材料(PZT、BST、SBT、SBT)、電極材料(Pt、Au、Ru、Al)和其他難以蝕刻的材料