儀器名稱：全自動離子濺射儀 型號：ETD-800
原理：二極直流濺射
儀器名稱：離子濺射儀 型號：ETD-900M
原理：磁控濺射
在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產
生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時，經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。
ETD-800參數：
主機規格：260mm×307mm×260mm（W×D×H）
電源規格：220V/50HZ
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au
真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm（D×H）
定時器： 最長時間：3600S
機械泵： 1L/S
主機規格：260mm×307mm×260mm（W×D×H）
電源規格：220V/50HZ
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au
真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm（D×H）
定時器： 最長時間：3600S
機械泵： 1L/S
電壓：-1200 DCV
ETD-900M參數：
主機規格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au（標配）
樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
靶材尺寸：Ф 50mm
真空指示表： 真空度：≤ 4X10-2 mbar
離子電流表： 電流：50mA
定時器： 最長時間：0-360S ?
微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體： 多種
電壓： -1600 DCV ?
機械泵：標準配置 2L/S（國產 VRD-8）
ETD-800用途：
1、簡單、經濟、可靠、外觀精美。
2、可調節濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。
5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備。
特點：可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銀等），以達到更細顆粒的涂層。
一鍵式操作，使用方便。
ETD-900M用途：
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
特點：1、簡單、經濟、可靠、外觀精美。
2、可調節濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護可避免真空過低造成設備短路。
5、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。
