應用與特點：
全譜直讀光譜儀采用國際標準的設計和制造工藝技術，采用全數字化技術，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術，與國際光譜儀技術同步，采用真空光學室設計及全數字化激發(fā)光源、的CCD檢測器、高速數據讀出系統，使儀器具有的性能、極低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設備之一。
技術指標：
項目指標：檢測基體 Fe、Cu、Al、Pb、Zn、Sn、Ni等
檢測時間：試樣品類型而定，一般25s左右
光學系統：帕型－龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統
波長范圍：130～850nm
焦距：400mm
探測器：高性能CCD陣列
電極：鎢材噴射電極
分析間隙：3.4mm
工作溫度：(10～35)℃
存儲溫度：(0～45)℃
工作濕度：20％～80％
氬氣純度要求：99.999%
氬氣進口壓力：0.5MPa
氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min，維持流量約0.4L/min
激發(fā)功率：400VA
光源類型：全新可調節(jié)數字化光源，高能預燃技術（HEPS）
放電頻率：100-1000 Hz
放電電流：400A
激發(fā)臺孔徑：13mm
真空系統：真空軟件自動控制、監(jiān)測
工作電源：220V AC，50/60Hz，保護性接地的單相電源
儀器尺寸：725*865*550（mm）
儀器重量：80kg
