產品簡介】

薄膜厚度測量儀利用分光干涉原理精確測量光學或非光學薄膜厚度，測量分辨率達到納米量級。該儀器具有測量迅速、操作簡單、測量結果穩(wěn)定（高再現(xiàn)性）、用戶使用界面易于操作等特點，是目前市場上性價比優(yōu)良的膜厚測量儀之一，可廣泛應用于半導體、醫(yī)療和工業(yè)生產等領域的薄膜厚度測量。該膜厚儀使用紫外到近紅外區(qū)域光源，測量范圍1nm到500μm，可以測量的膜厚材料包括氧化物、氮化物和保護膜層等常用薄膜材料。

【測量原理】

白色照明光源垂直照射到待測薄膜，一部分光經過薄膜上表面的反射，返回到分光儀。另一部分透過薄膜上表面，經過薄膜與底層之間的界面反射，返回到分光儀（圖1）。這兩束光在分光儀的光電轉換器表面重合，形成分光干涉條紋。根據分光干涉條紋的周期和薄膜厚度的關系，利用傅立葉變換方法，解析薄膜的厚度（圖2和圖3）。在薄膜厚度解析過程，利用不同類型材料的相應參數(shù)修訂解析模型，從而進一步提高不同類型材料膜厚測量的準確性。

產品特點】

l UV/VIS/NIR高分辨率的配置

l 測量準確度達到1nm重復性為0.1nm

l 可以測量多層薄膜的厚度

l 測量范圍*小至1nm*大至500µm

l 提供多種實驗臺及附件用于復雜外形材料的測量

l 對表面缺陷和粗糙度不敏感

l 龐大的材料數(shù)據庫保證各種材料的精確測量

l 自動調節(jié)照明光源強度

l 高速、高精度測量，*高測量頻率達到300Hz

l 重量輕、體積小，攜帶方便、安裝簡單，易于安裝在生產線上

l 分光干涉測量模式，無任何移動部件，可長時間穩(wěn)定工作

l 非接觸光學無損測量，測量過程不會對樣品造成破壞

l 提供*佳解析模型，消除不同材料對測量結果的影響

【使用特點】

快速：每次測量只需點擊鼠標，測量結果立即呈現(xiàn)在屏幕上，不到一秒鐘。應用于在線模式下，可在接受到采樣信號后，立即測量

準確：準確度1nm重復性0.1nm，準確度優(yōu)于1%，有多種材料組成的龐大的材料庫，準確分析被測的薄膜。儀器為光學測量系統(tǒng)，無任何移動部件，不會由于多次測量產生回程等機械運動誤差，可長時間穩(wěn)定工作

無損：非接觸光學無損測量，無須破壞樣品或對樣品做特殊處理

靈活：重量約為3kg，體積250*280*100mm，USB2.0/RS232/LAN多種接口連接方式，攜帶方便、安裝簡單，可任意放置于實驗室、生產線甚至辦公桌上使用。擁有多種特種配件，可適應如非平面測量、顯微測量等特殊需求

方便：儀器集成自動調光模塊，根據系統(tǒng)捕捉到的光譜數(shù)據自動調整光源的輸出功率，避免光超過光譜儀的高敏感度線陣探測器能探測的極限，不會出現(xiàn)圖像的飽和

易用：軟件界面直觀、中文顯示、操作簡單、用戶體驗出色。無需專業(yè)知識以及復雜的技術培訓，預先設置好測試參數(shù)后，每次重復調用即可

性價比高：相對于傳統(tǒng)膜厚測量設備，儀器擁有非常高的性價比