產(chǎn)品簡介】

薄膜厚度測量儀利用分光干涉原理精確測量光學(xué)或非光學(xué)薄膜厚度，測量分辨率達(dá)到納米量級。該儀器具有測量迅速、操作簡單、測量結(jié)果穩(wěn)定（高再現(xiàn)性）、用戶使用界面易于操作等特點(diǎn)，是目前市場上性價比優(yōu)良的膜厚測量儀之一，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)等領(lǐng)域的薄膜厚度測量。該膜厚儀使用紫外到近紅外區(qū)域光源，測量范圍1nm到500μm，可以測量的膜厚材料包括氧化物、氮化物和保護(hù)膜層等常用薄膜材料。

【測量原理】

白色照明光源垂直照射到待測薄膜，一部分光經(jīng)過薄膜上表面的反射，返回到分光儀。另一部分透過薄膜上表面，經(jīng)過薄膜與底層之間的界面反射，返回到分光儀（圖1）。這兩束光在分光儀的光電轉(zhuǎn)換器表面重合，形成分光干涉條紋。根據(jù)分光干涉條紋的周期和薄膜厚度的關(guān)系，利用傅立葉變換方法，解析薄膜的厚度（圖2和圖3）。在薄膜厚度解析過程，利用不同類型材料的相應(yīng)參數(shù)修訂解析模型，從而進(jìn)一步提高不同類型材料膜厚測量的準(zhǔn)確性。

產(chǎn)品特點(diǎn)】

l UV/VIS/NIR高分辨率的配置

l 測量準(zhǔn)確度達(dá)到1nm重復(fù)性為0.1nm

l 可以測量多層薄膜的厚度

l 測量范圍*小至1nm*大至500µm

l 提供多種實(shí)驗臺及附件用于復(fù)雜外形材料的測量

l 對表面缺陷和粗糙度不敏感

l 龐大的材料數(shù)據(jù)庫保證各種材料的精確測量

l 自動調(diào)節(jié)照明光源強(qiáng)度

l 高速、高精度測量，*高測量頻率達(dá)到300Hz

l 重量輕、體積小，攜帶方便、安裝簡單，易于安裝在生產(chǎn)線上

l 分光干涉測量模式，無任何移動部件，可長時間穩(wěn)定工作

l 非接觸光學(xué)無損測量，測量過程不會對樣品造成破壞

l 提供*佳解析模型，消除不同材料對測量結(jié)果的影響

【使用特點(diǎn)】

快速：每次測量只需點(diǎn)擊鼠標(biāo)，測量結(jié)果立即呈現(xiàn)在屏幕上，不到一秒鐘。應(yīng)用于在線模式下，可在接受到采樣信號后，立即測量

準(zhǔn)確：準(zhǔn)確度1nm重復(fù)性0.1nm，準(zhǔn)確度優(yōu)于1%，有多種材料組成的龐大的材料庫，準(zhǔn)確分析被測的薄膜。儀器為光學(xué)測量系統(tǒng)，無任何移動部件，不會由于多次測量產(chǎn)生回程等機(jī)械運(yùn)動誤差，可長時間穩(wěn)定工作

無損：非接觸光學(xué)無損測量，無須破壞樣品或?qū)悠纷鎏厥馓幚?/span>

靈活：重量約為3kg，體積250*280*100mm，USB2.0/RS232/LAN多種接口連接方式，攜帶方便、安裝簡單，可任意放置于實(shí)驗室、生產(chǎn)線甚至辦公桌上使用。擁有多種特種配件，可適應(yīng)如非平面測量、顯微測量等特殊需求

方便：儀器集成自動調(diào)光模塊，根據(jù)系統(tǒng)捕捉到的光譜數(shù)據(jù)自動調(diào)整光源的輸出功率，避免光超過光譜儀的高敏感度線陣探測器能探測的極限，不會出現(xiàn)圖像的飽和

易用：軟件界面直觀、中文顯示、操作簡單、用戶體驗出色。無需專業(yè)知識以及復(fù)雜的技術(shù)培訓(xùn)，預(yù)先設(shè)置好測試參數(shù)后，每次重復(fù)調(diào)用即可

性價比高：相對于傳統(tǒng)膜厚測量設(shè)備，儀器擁有非常高的性價比