UVISEL Plus橢圓偏振光譜儀
UVISEL Plus光譜范圍從FUV到NIR：190-2100nmUVISEL Plus橢圓偏振光譜儀為*薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優化組合。
UVISEL Plus作為一款高準確性、高靈敏度、高穩定性的經典橢偏機型，它采用了PEM 相位調制技術，與機械旋轉部件技術相比， 能提供更好的穩定性和信噪比。光譜范圍從190nm到2100nm。
UVISEL Plus集成了全新的FastAcqTM快速采集技術，可在3分鐘以內實現高分辨的樣品測試（190-2100 nm），校準僅需幾分鐘。基于全新的電子設備，數據處理和高速單色儀，FastAcq技術能夠為用戶提供高分辨及快速的數據采集。FastAcq專門為薄膜表征設計，雙調制技術可以確保您獲得優異的測試結果。
相位調制技術的特點為高頻調制 50 kHz，信號采集過程無移動部件：
測試全范圍的橢偏角，Ψ (0-90)，Δ (0-360)
從FUV到NIR具有優良的信噪比
數據采集速度快，高達50毫秒/點，是動力學研究和在線測量的理想選擇相比于采用 旋轉元件調制的傳統橢圓偏振光譜儀，UVISEL Plus的相位調制模式在表征薄膜方面具有更高的靈敏度和精度。它不僅可以探測到其他橢偏儀無法觀測到的極薄膜或界面，還可以表征50µm的厚膜。
在測試有背反射的透明樣品時，測試簡單、準確，無需刮花背面。
UVISEL Plus還設計有多種附件及可選功能，便于客戶根據應用需求及預算選擇合適的配置。比如，微光斑用于圖案樣品、自動變角器、自動樣品臺等。
UVISEL Plus采用模塊化設計，可靈活擴展。即可用于離線臺式測量，也可以耦合于鍍膜設備做在線監控。
UVISEL Plus可根據習慣選擇操作界面，一個是 DeltaPsi2 具有建模和擬合處理功能；另一個是 Auto-Soft 用戶導向的全自動樣品測試界面 ，工作流程直觀，易于非專業人士操作。
UVISEL Plus搭載FastAcq技術是材料研究和加工、平板顯示、微電子和光伏領域中優選通用光譜型橢偏儀。
UVISEL Plus是材料科學研究的理想工具。
產品優勢
●高精度和高靈敏度
●模塊化設計
●寬光譜范圍： 190-2100 nm
●集數據測量、建模和自動化操作為一體的軟件包
獲得的信息
●膜層厚度，從1?到50 µm
●表面和界面粗糙度
●光學常數 (n,k) ，適用于各向同/異性和漸變層
●光學特性如：吸收系數α, 光學帶隙Eg
●材料性能：合金成分、孔隙率、結晶度及形貌等
●穆勒矩陣
●退偏
UVISEL 規格
●光譜范圍：標配190-885nm，可擴展至近紅外2100nm
●檢測系統：高分辨率光譜儀配合高靈敏探測器
手動配置
●光斑尺寸：0.05 – 0.1 – 1 mm（針孔）
●樣品臺：直徑150mm，手動調節高度（20mm）和傾角
●卡位量角器：手動調節角度，從55°到90°，步徑5°
自動配置
●光斑尺寸：0.05 - 0.1 - 1 mm或0.08 - 0.12 - 0.25 - 1.2 mm（針孔）
●自動樣品平臺：200 x 200mm或300 x 300mm，手動調節高度（4mm）和傾角；●XYZ樣品臺，theta平臺
●自動量角器：自動調節角度，從45°到90°，步徑0.01°
集成型量角器
●手動調節入射角度，從35°到90°，步徑5°
●樣品臺：直徑150mm，手動調節高度（20mm）
●自動準直系統（可選）
●尺寸: 25cm*21cm*35cm
在線配置
●機械適配器：CF35或KF40法蘭
●易于在在線和離線配置間更改
選配
●附件：冷熱臺、液體樣品池、電化學反應池、反射模塊（測試0°入射的反射率）等
●可視化：CCD攝像機
性能
●準確度：Ψ= 45°±0.01°和Δ=0°±0.01°，空氣對射1.5 - 5.3 eV
●重復性：NIST 1000? SiO2/Si (190-2100 nm)，d±0.1%，n(632.8nm)±0.0001
