產(chǎn)品概述：雷達(dá)物位計適用于各種過程條件復(fù)雜的容器、儲罐、倉料等物位測量，適用于對液體、漿料、顆粒以及粉塵的物位進(jìn)行接觸式連續(xù)測量，特別是應(yīng)用在有粉塵、以及有揮發(fā)性物質(zhì)存在的復(fù)雜環(huán)境下，且不受被測介質(zhì)物理特性變化的影響。

產(chǎn)品測量原理：雷達(dá)天線發(fā)射極窄的微波脈沖，這個脈沖以光速在空間傳播，碰到被測介質(zhì)表面，其部分能量被反射回來，被同一天線接收。發(fā)射脈沖與接收脈沖的時間間隔與天線到被測介質(zhì)表面的距離成正比。由于電磁波的傳播速度，發(fā)射脈沖與接受脈沖的時間間隔很小（納秒量級）很難確認(rèn)。UPR系列雷達(dá)物位計采用一種特殊的相關(guān)解調(diào)技術(shù)，可以準(zhǔn)確識別發(fā)射脈沖與接收脈沖的時間間隔，從而進(jìn)一步計算出天線到被測介質(zhì)表面的距離。

產(chǎn)品特點(diǎn)：
由于采用了*的微處理器和的EchoDiscovery回波處理技術(shù)，雷達(dá)物位計可以應(yīng)用于各種復(fù)雜工況。
“虛假回波學(xué)習(xí)”功能使得儀表在多個虛假回波的工況下，可正確地確認(rèn)真實回波，獲得準(zhǔn)確的測量結(jié)果。
多種過程連接方式及天線型式，使得UPR系列雷達(dá)物位計適于各種復(fù)雜工況。如：高溫、高壓及小介電常數(shù)介質(zhì)的測量等。
采用脈沖工作方式，雷達(dá)物位計發(fā)射功率極低，可安裝于各種金屬、非金屬容器內(nèi)，對人體及環(huán)境均無傷害。