LiSpec-UVIR300TEC 制冷光纖光譜儀
LiSpec-UVIR300TEC制冷光纖光譜儀是萊森光學（LiSen Optics）的明星產品，采用了在200-1000nm高量子效率的1044x64像素薄型背照制冷型面陣CCD，其像元尺寸達到24µm×24µm，具有非常高的科研級靈敏度，同時采用了高性能穩定的TE制冷裝置、降噪低噪聲電路控制技術，光譜儀暗噪聲極低，優良的穩定性，高信噪比。LiSpec-UVIR300TEC采用了大焦距C-T光學平臺設計，雜散光光陷阱控制技術，大大提升了光譜儀的性噪比、靈敏度以及熱穩定性，非常適合紫外輻射、拉曼、熒光等微弱光譜信號的測量。
LiSpec-UVIR300TEC制冷光纖光譜儀光譜覆蓋范圍200-950nm，可根據用戶需求配置不同刻線數的光柵，狹縫大小，消二級衍射濾光片，獲得不同的波長范圍光譜和分辨率。此外，LiSpec-UVIR300TEC光譜儀還采用了可更換狹縫設計，用戶可以方便輕易的自己進行狹縫更換，配置多種不同寬度的狹縫，以滿足不同分辨率和靈敏度的光譜測量需求，以拓展其靈活性。
主要技術特點
2 光譜范圍200-950nm可選，大焦距CT光路設計，分辨率高，狹縫可更換，擴展靈活
2 熱電致冷背照式面陣CCD，光譜響應量子效率高、穩定性好
2 噪聲電路控制技術，極低暗噪聲，信噪比、動態范圍高
2 高靈敏度及熱穩定性，非常適合拉曼、熒光等微弱信號光譜應用
2 LiSpecView全功能光譜測試軟件，提供透反射、輻射、拉曼、吸光度、激光功率、顏色測量等多種測量模塊
典型應用
2 拉曼光譜測量
拉曼測量系統主要由光譜儀、激光器、拉曼探頭、拉曼識別光譜分析軟件等組成，拉曼散射主要為斯托克斯和反斯托克斯，斯托克斯拉曼散射通常要比反斯托克斯散射強得多，拉曼光譜儀通常測定的大多是斯托克斯散射，常用拉曼光譜儀有532/785/1064拉曼光譜儀，拉曼測量相對熒光信號會更弱一個數量級，
通常我們在針對微弱拉曼信號測量我們要進行表面拉曼增強（SERS）的方法來提高拉曼信號SERS。
LiSpec-UVIR300TEC制冷光纖光譜儀因其的靈敏度和高信噪比的特點，可以搭配激光器、拉曼探頭等配件，進行對微弱光譜信號的拉曼測量應用，廣泛應用于食品安全、化學實驗室、生物及醫學等光學方面領域，研究物質成分的判定與確認；還可以應用于刑偵中對的檢測及珠寶行業的寶石鑒定。
2 顏色測量
物體的顏色可以由CIE1976（L*a*b*）顏色空間來表述。L*代表顏色的亮度，正a*值代表紅色，負a*值代表綠色，色調（Hue），色度（Chroma），與此相似，正b*值代表黃色，負b*值代表藍色。L*a*b*值可由樣品（物體）的CIE三刺激值X，Y，Z和標準光源的三刺激值Xn，Yn，Zn推導得到，物體顏色的CIE三刺激值X，Y，Z是把標準光源的相對功率P、物體的反射率R（或透射率T）和CIE標準觀測函數（2度或10度角）相乘得到。把所得到的值在可見光范圍內（從380到780nm，5nm步長）對波長進行積分就可得到三刺激值。專業的顏色測量軟件，測量得到的L*a*b*值和參考色，就可以得到色差。
2 輻射測量
輻射光能量可以量化為輻射通量，即一種表征從光源發出的每秒輻射能量（W）的度量標準。輻射測量一般要通過已知光譜能量分布的標準光源，對光譜儀系統進行輻射標定，才能通過量化參數進行輻射測量。輻射能量與人眼視覺相關聯（光度學），就可以得到按照CIE中所定義的表征觀測者平均視覺的光譜發光效率函數。因此輻射測量定義輻射度學參數、光度學參數、色度學參數。輻射度學參數主要以輻照度
μW/cm2、輻亮度µWatt/sr、輻射通量µWatt以及光子數µMol/s/m2，µMol/m2，µMol/s和µMol，光度學參數流明Lumens、光照度Lux、光強度Candela，色度學參數X，Y，Z，x，y，z，u，v，色溫、CRI顯色指數等
2 輻照度測量
2 LED顏色測量
2 吸光度測量
光譜儀測量吸光度的方法是將某一波長的平行光通過一塊平面平行物體，對透過物體的光束進行檢測。由于一部分能量被樣品中的分子吸收，檢測的入射光的強度要高于透過樣品的光強。吸光度被廣泛運用于液體和氣體的光譜測量技術中，可以對物質進行定量鑒別或指紋認證等，還可以將該應用集成到工業應用環境和客戶所關注的測試中。
使用萊森光學模塊化光譜儀，可針對特定的吸光度測量來選擇不同波長范圍和分辨率的光譜儀，并且能在實驗室或者現場，對整套光學測量裝置進行快速配置。可以基于萊森光學優質的光譜儀，選擇紫外光源、不同光程氣室、吸收池、特定吸收光路模塊、光纖探頭進行靈活易用的搭配，針對不同的吸光度試驗搭配出多種配置選擇。
l 液體吸光度
l 氣體吸光度
2 薄膜測量
薄膜測量系統是基于白光干涉原理來確定光學薄膜的厚度。白光干涉圖樣通過數學函數被計算出薄膜厚度。對于單層膜，若已知薄膜介質的n和k值即可計算出它的物理厚度。測量的膜層厚度從10 nm到50 um，分辨率可達1 nm。薄膜測量應用于半導體晶片生產工業，此時需要監控等離子刻蝕和沉積加工過程。還可用于其它需要測量在金屬和玻璃基底上鍍制透明膜層的領域，如金屬表面的透明涂層和玻璃襯底。
2 透/反射光譜測量
隨著工業的蓬勃發展，對材料本身特性的質量控制愈加嚴格，利用光纖光譜儀進行快速準確的透/反射光譜的測量技術也日益成熟。透/反射光譜測量是光譜測量的基本手段，通常需要使用光譜儀、光源、光纖、測量支架、標準參比樣品、和測量軟件等設備。對于不同種類的樣品，為了獲取更好的光譜數據，這兩種基本模式又會演化為更多的形式。
光纖光譜儀采用光纖光路，解決了光路在儀器集成中的限制。并且萊森光學的光纖光譜儀具有體積小，穩定性高，支持軟件二次開發，配件豐富等特點，已經成功的廣泛應用于玻璃、高分子材料等行業的測試。萊森光學為用戶提供了以光譜儀為核心的光譜測量設備，利用這些配置豐富的設備，即可搭建各種常見的光譜測量系統。
2 反射測量
2 透射測量
2 熒光光譜測量
熒光物質在特定波長的輻射能量輻射下，能發射出具有一定光譜分布的輻射。熒光光譜測量靈敏度高、選擇性強、樣品用量少、方法簡便且具備環保性，具有如上諸多優點，所以在工程應用中有著廣泛的應用，如在食品加工過程中用于食品安全的監測、生物醫學中用于病變的熒光診斷、地質學中用于石油礦物勘探、
土壤礦物成分的測定以及物質中微量元素的檢測等等。
熒光光譜測量通常需要高靈敏度的光譜儀。對于大多數熒光應用來說，產生的熒光能量只相當于激發光能量的3%左右。熒光的光子能量比激發光的光子能量小，波長長，而且一般都是在各個方向上輻射能量的散射光。萊森光學光纖光譜儀采用了可更換狹縫、可選擇的波長范圍和分辨率設計，使客戶能根據自己的需求配置自由搭配適合參數的熒光測量系統。
