產品概述
一、項目概述
氨是形成大氣污染的重要因素之一，越來越受到環境監管部門的重視。環境空氣中氨濃度極低、易吸附，傳統測量方法遇到很大的挑戰。大方科技結合氨逃逸在線監測的豐富經驗，采用開放光程TDLAS技術，開發的環境空氣氨氣連續自動監測產品，具有光程長、測量精度高、無吸附、響應速度快等特點，適合環境空氣中痕量氨的實時在線監測。
二、測量原理
系統采用可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術進行NH3的測量，以可調諧激光器作為光源，發射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減，根據朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強成比例關系，從而實現高靈敏快速精確監測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環境中其它成分的干擾，相比其它復合光源而言，具有*的測量精度。
三、測量方案
根據環境空氣中氨濃度低、易吸附、測量精度要求高等特點，方案采用了國際上*的開放光程遙測TDLAS技術，設備覆蓋范圍廣，光程長，測量精度也得到了極大的提高。
系統由分析單元和反射單元組成，分析單元向反射單元發射激光，經反射后進入分析單元接收和解析測量。分析單元一體化設計，小巧輕便。反射單元采用自主開發的高反裝置，可以覆蓋較遠的距離。系統配置自動校準裝置，可以定期對設備進行自動校準，也可對設備進行手動校準和檢驗。
四、系統特點
1 采用TDLAS技術，不受背景氣體影響
系統采用可調諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受測量環境中其它成分的干擾。
2 系統無漂移，避免了定期校正需要
系統內部設計有標定氣室，用于設備自動標定及實時的氣體吸收譜線鎖定，設備通過該氣室自動標定，無需人為定期標定。同時測量時進行實時動態補償，使測量不受溫度、壓力以及環境變化的影響，不存在漂移現象。
3 直接測量更準確
系統采用可調諧半導體激光吸收光譜技術，直接測量NH3分子對特定波長光強的吸收，計算NH3的濃度，無需進行NH3向其它的物質轉換，避免了因轉換效率等因素影響的測量準確度，不需要定制的轉換設備的維護和更換，準確度更高，運行維護成本更低。
4 測量精度高
系統采用開放光程測量方式，光程長，覆蓋范圍更廣，測量精度更高。
5 無吸附損失
系統采用開放式光路設計，測量光直接在測量區域發射、反射及接收，不需要采樣、過濾等預處理，測量過程中無任何的NH3吸附、損失。
6 響應速度快
TDLAS技術實現毫秒級掃描，無須采樣、轉換等過程，系統響應速度快。
7 可靠性高、運維成本低
分析儀一體化設計，無任何運動部件。系統光學部件均設計有保護裝置，避免設備在運行時光學器件受到污染，極大的降低了運行維護的工作量和成本。
8 儀表自檢及自恢復功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能，軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態，可以通過自檢及自恢復，使分析儀重新恢復測量工作狀態。
9 自主知識產權
大方科技深耕TDLAS技術領域20年，針對國內應用現場監測難點進行專業和定制化開發，擁有數十項發明和軟件著作權，對產品擁有*自主知識產權，產品具有高可靠性和適用性。
五、典型應用：
空氣站環境空氣中氨濃度的實時在線監測；
廠界或園區環境空氣氨濃度的實時在線監測。
