概述
從原料檢驗到終產品控制，Polytec 近紅外光譜分析儀（PSS）為提高生產過程的經濟效益開創了許多可能性。
過程分析的決定性優勢是可實現對生產過程的全自動化實時控制。除了確保產品質量的*性外，也可以對生產過程本身進行監控和優化。過程分析可實現高質量、低成本且便捷的解決方案，從而實現快速投資回報。 該方法可應用于不同的生產環節：進貨檢驗、過程控制和100％的終端產品分類。許多相關參數可以從一次測量中獲得。例如，定性和定量化學分析，或者層厚度測量是典型的應用。
Polytec 近紅外光譜分析儀（PSS）的設計使其可以實現靈活的配置，可為各種應用提供較有利的解決方案。 將合適的探頭、光譜儀和軟件進行各種組合以滿足不同應用的需求。系統使用標準化的組件，以確保在集成過程中的高精度和易用性。PSS系統基于成熟的技術，提供滿足特定應用的解決方案，安全且易于集成。
實驗室和工業應用根據所需的典型測量和輸出需求而有所不同。 為了在實驗室中進行數據采集，我們的軟件包提供了全面測量功能以實現快速高效的數據采集。對于工業在線應用，我們提供可配置的解決方案，從細節的特定測量設置到與過程控制系統進行通信。 我們的軟件產品組合還包括由成熟的多元數據分析供應商提供的一系列兼容軟件包
Polytec （PSS）與標準的化學計量學軟件包*兼容，便于進行光譜測量的多元數據分析。 這些軟件包可以成功用于化學計量學方法的計算、開發以及過程分析中的在線預測。目前 ， 我們提供來自以下合作伙伴的各種化學計量學軟件：
1) Camo (The Unscrambler® X)
2) SensoLogic (Calibration Wizard)
3) Umetrics (Simca)
技術規格
1) 集成 20W 鎢鹵素光源用于樣品照射
2) SMA 905 光纖連接
3) 工業防護等級 IP64
4) 帶藍寶石窗的不銹鋼外殼（僅接觸式探頭）
5) 配置可滿足食品行業通行法規或防爆認證（僅接觸式探頭）
6) 適用的測量距離從 150 毫米到 600 毫米不等（非接觸式探頭）
7) 通過光源和傳感器單元的組合，適用的測量距離從0 到 50毫米不等（接觸式探頭）
技術特點
1) 是過程分析中重要和較廣泛使用的方法之一。無損，，無需樣品制備，不產生浪費
2) 采用二極管陣列技術，即使在高測量速率下也能提供穩定可靠的測量結果
3) 創新的透射光柵的設計，能夠實現大的靈敏度和極低的散射光（ 對比度 > 1：50,000 ），同時保證長期穩定性
4) 全自動的系統校準，可調整的測量光斑大小
5) 標準化的光譜范圍，極低的散射光水平，*的測量速率，接近理論極限的均勻的光學分辨率
6) 接觸式和非接觸式探頭專為工業應用而設計，可滿足苛刻的現場要求，無懼灰塵、濕氣、壓力和溫度等種種因素的影響，符合通用的生產和安全規定，例如可以用于食品工業或防爆區
7) 可通過多探頭光學切換模塊實現一臺設備配套多個探頭的應用，實現多條生產線互不干擾的實時過程監控和控制
8) 提供標準模塊化的設備和軟件，高度的靈活性，易于集成，簡化操作
客戶價值
1) 從原材料的實時檢測到終產品的質量控制的生產全過程，通過減少廢品率來提高效率和降低成本
2) 對整個生產過程的自動實時控制，確保產品的質量穩定性，對生產工藝過程實現全程監測并進行優化
3) 一臺儀器可以測量多個參數，降低客戶設備投資成本
4) 無需樣品制備過程，加快檢測通量
5) 對待測樣品絲毫不產生破壞，非侵入性測量，也不存在樣品消耗
6) 為每位客戶制定詳細的年度維護及預防性維修方案，保證設備長期連續可靠運行，真正實現極低的使用和維護成本
7) 便捷的操作和維護
應用
1) 固體（如散裝貨物 ，粉末 ，紙張或紡織品）
2) 流體（例如液體 ，懸浮液 ，擴散和粘性介質）
3) 氣體（如氣溶膠或煙霧）
4) 非接觸式探頭用于遠距離測量的反射探頭（ 傳送帶、網狀應用等等 ）
5) 接觸式探頭用于近距離或與樣品直接接觸（ 管道，滑槽，漏斗等 ）測量
6) 青貯玉米檢測
7) 飼料檢測
8) 食品
9) 制藥
10) 工業在線質控
11) 產品篩選（例如按照顆粒大小分類，或按照成分不同進行分類）
12) 膜層厚度測量
可選配置
型號：PSS 1720
光譜范圍：850 – 1650 nm
檢測器：InGaAs
像素：256
分辨率：<6.4 nm或<9.5 nm
型號：PSS 1750
光譜范圍：850 – 1650 nm
檢測器：InGaAs
像素：512
分辨率：<3.2 nm或<4.8 nm
型號：PSS 2120
光譜范圍：1100 – 2100 nm
檢測器：InGaAs
像素：256
分辨率：<7.9 nm或<11.9 nm
型號：PSS 2220
光譜范圍：1200 – 2200 nm
檢測器：InGaAs
像素：256
分辨率：256 <7.9 nm或<11.9 nm
配套附件
1) 多探頭光學切換模塊
2) 直線型單光纖光纜
3) 探頭電源和控制電纜
4) 探頭支架
5) 旋轉臺
技術原理
與常用的化學分析方法不同，近紅外光譜分析法是一種間接分析技術，是用統計的方法在樣品待測屬性值與近紅外光譜數據之間建立一個關聯模型（或稱校正模型，Calibration Model）。近紅外光譜法是利用含有氫基團（X-H，X為：C，O，N，S 等）化學鍵(X-H)伸縮振動倍頻和合頻，在近紅外區的吸收光譜，通過選擇適當的化學計量學多元校正方法，把校正樣品的近紅外吸收光譜與其成分濃度或性質數據進行關聯，建立校正樣品吸收光譜與其成分濃度或性質之間的關系（校正模型）。在進行未知樣品預測時，應用已建好的校正模型和未知樣品的吸收光譜，就可定量預測其成分濃度或性質。
制造商簡介
Polytec GmbH：者，創新者，*主義者。
Polytec在擁有400多名員工，為研究和行業開發，生產和銷售光學測量技術解決方案。優質的創新產品在專業領域享有盛譽，并根據客戶的日常需求量身定制專屬的解決方案。
今天，Polytec專注于科技領域：
1) 震動測量
2) 測速
3) 3D表面測量
4) 過程分析
5) 圖像處理
6) 其他光學系統
Polytec的技術應用于眾多專業領域，包括：航空航天，醫療，納米技術，機械工程領域等。Polytec的測量技術在這些領域都能幫助企業樹立并鞏固其技術提高。用戶在測量敏感的生產流程，產品質量時都會依賴于Polytec的測量技術。
