Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 技術規格：
實時過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導體制造的分子分析原位平臺, 提供實時, 可操作的數據
采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產工具*集成
Aston™ 過程質譜分析儀作為一個強大的平臺, 可以取代多種傳統工具, 提供的控制水平, 包括光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
Aston™ 過程質譜分析儀技術參數
類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
型號 | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
質量分離 | 四級桿 | |||||
真空系統 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 |
檢測器 | FC /SEM | |||||
質量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
檢測限 | 0.1 PPM | |||||
工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
功率 | 350 W | |||||
重量 | 15 kg | |||||
尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) | ||||
Atonarp Aston™ 應用: 半導體工藝過程控制和優化的重大發展, 提高半導體制造工藝的產量, 吞吐量和效率
Aston™ 是一款全新設計堅固耐用的緊湊型在線質譜儀, 適用于半導體制造和工業過程控制應用中氣體監測和控制, 高定量精度和實時性與生產穩健性和可靠性相結合, 例如半導體 dry pump 尾氣偵測分析, 實現在線監控,診斷.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物過渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:識別跟蹤分子
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