在鍋爐煙氣SCR和SNCR脫硝工藝中，需要實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)SCR和SNCR反應(yīng)器入口的NOx/O2和出口NOx/O2/NH3 ，其中監(jiān)測(cè)NOx/O2用于環(huán)保排放控制和脫硝效率計(jì)算，監(jiān)測(cè)NH3的目的是在脫硝時(shí)NH3的注入量既要保證有足夠的NH3與NOx反應(yīng)，以降低NOx排放量，又要避免煙氣中逃逸過量的NH3，注入過量的NH3不僅會(huì)增加腐蝕，縮短SCR催化劑壽命，還會(huì)污染煙塵，增加空氣中預(yù)熱器中氨鹽的沉積，以及增加向大氣的NH3排放。對(duì)SCR反應(yīng)器出口的氨逃逸量監(jiān)測(cè)并控制在2～3ppm，可延長(zhǎng)空氣預(yù)熱器檢修周期及催化劑更換周期。氮氧化物分析儀采用非分散紅外吸收法或紫外吸收光譜技術(shù)和化學(xué)計(jì)量學(xué)算法，分別對(duì)脫硝塔前入口和出口的氮氧化物進(jìn)行檢測(cè)。

　　LH-5000B型氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術(shù)，對(duì)脫硝過程中的逃逸氨進(jìn)行連續(xù)在線監(jiān)測(cè),系統(tǒng)由取樣及傳輸單元、預(yù)處理及控制單元、分析單元三部分構(gòu)成，分析儀采用了可調(diào)諧激光吸收光譜技術(shù)(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy，簡(jiǎn)稱TDLAS)的原理，可測(cè)量過程氣體成分中的特定氣體的濃度，包括NH3、H2S、HCL、HF等。該系統(tǒng)具有靈敏度高、響應(yīng)速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式光學(xué)測(cè)量等特點(diǎn)，為實(shí)時(shí)準(zhǔn)確地反映逃逸氨的變化提供了可靠保證。主要應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域氣體排放監(jiān)測(cè)和過程控制，例如:燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。

　　氨逃逸監(jiān)測(cè)系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):

　　測(cè)量組分:NH3

　　量程:0-20ppm

　　檢測(cè)下限:0.1ppm

　　響應(yīng)時(shí)間:1秒(指儀表的響應(yīng)時(shí)間，而系統(tǒng)響應(yīng)時(shí)間還需要考慮預(yù)處理導(dǎo)致的滯后)

　　線性誤差：<1.0%F.S

　　系統(tǒng)漂移:無漂移

　　重復(fù)性：1.0%F.S

　　模擬量輸出:4-20mA

　　數(shù)字通訊接口:RS232

　　電源:220VAC

　　吹掃氣:儀表級(jí)壓縮空氣

　　安裝方式:原位式或高溫抽取式

　　氨逃逸安裝示意圖(原位式):

　　氨逃逸安裝示意圖(高溫抽取式)：

　　技術(shù)*性：

　　利用半導(dǎo)體激光良好的單色性，不受背景氣體吸收的干擾;

　　全程220℃以上伴熱保溫，熱法測(cè)量，避免樣品中水分冷凝吸收NH3;

　　利用半導(dǎo)體激光波長(zhǎng)的可調(diào)性解決粉塵、視窗污染對(duì)測(cè)量的影響;

　　采用旁路全程高溫抽取式測(cè)量方法，維護(hù)方便快捷;

　　儀器內(nèi)部沒有標(biāo)定腔，測(cè)量過程中定時(shí)自動(dòng)標(biāo)定，無需手動(dòng)標(biāo)定;

　　儀器無運(yùn)動(dòng)器件，可靠性高、維護(hù)方便，運(yùn)行費(fèi)用接近于零(僅為電費(fèi))

　　可自動(dòng)修正環(huán)境溫度、壓力變化對(duì)測(cè)量的影響;

　　非接觸測(cè)量，可適用于高溫、高粉塵和強(qiáng)腐蝕等惡劣工業(yè)環(huán)境下的氨逃逸監(jiān)測(cè)。