多點取樣激光氨逃逸在線分析系統
一、項目概述
脫硝噴氨過程需要準確監測氨逃逸濃度，針對大型機組脫硝反應器出口煙道較大，為使測量更具代表性，可采用多點取樣方式監測氨逃逸。用戶根據多點氨逃逸的測量數據，優化、調整噴氨工藝，提高脫硝效率。多點取樣是指采用多個取樣系統采樣后混合或者輪流進入分析系統測量。
二、測量原理
系統采用可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術進行NH3的測量，以可調諧激光器作為光源，發射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減，根據朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強成比例關系，從而實現高靈敏快速精確監測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環境中其它成分的干擾，相比其它復合光源而言，具有*的測量精度。
朗伯比爾定律：
其中光譜吸收系數：
三、測量方案
根據脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求，產品采用大方科技經典的抽取+多反長光程測量技術，煙氣通過多個采樣系統取樣后混合或者輪流進入分析單元測量分析。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道震動等對測量的影響。煙氣流經管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測量光程可達30米，可大大提高測量精度。
四、系統特點
1 采用TDLAS技術，不受背景氣體影響
系統采用可調諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受測量環境中其它成分的干擾。
2 系統無漂移，避免了定期校正需要
系統采用波長調制光譜技術，并且進行動態的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環境變化的影響，不存在漂移現象。
3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失
抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱，確保無氨氣吸附損失。
4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度
系統采用多次反射測量池技術，光程可達30米，極大地提高了測量精度。
5 取樣更有代表性
根據煙道尺寸和用戶需求，選擇多個取樣點進行監測，探桿插入深度可根據煙道寬度進行調整，取樣更有代表性。
6 多點監測
可設定多個監測點，分時輪流取樣分析或多個監測點同時混合取樣分析，多個監測點的數據可以通過模擬量實時傳輸到DCS。
7 自動反吹
具備自動反吹控制，反吹間隔和反吹時長根據工況設置，取樣結束后，對各點探頭依次輪流反吹，有效避免濾芯堵塞。
8 技術，便于維護光學器件
大方科技*的樣氣室設計，包含維護窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學器件進行清潔，無需重新調節光路，讓維護更加快速方便。
9 儀表自檢及自恢復功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能，軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態，可以通過自檢及自恢復，使分析儀重新恢復測量工作狀態。
10 自主知識產權
大方科技深耕TDLAS技術領域20年，針對國內應用現場監測難點進行專業和定制化開發，擁有數十項發明和軟件著作權，對產品擁有*自主知識產權，產品具有高可靠性和適用性。
五、典型應用：
大型機組、自備電廠脫硝氨逃逸監測
