Apreo場發射掃描電子顯微鏡
復合透鏡結合了靜電和磁浸沒技術，可產生前的高分辨率和材料
是研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，而不會降低磁性樣品性能。傳統的高分辨率 SEM 透鏡技術分為兩類：磁浸沒或靜電。FEI 將兩種技術結合到一個儀器中。這樣做所產生的成效遠遠超過任一種鏡筒的個體性能。兩種技術均使電子束形成細小探針，
Apreo場發射掃描電子顯微鏡
擁有透鏡內背散射探測器 T1，其位置緊靠樣品以便盡可能多地收集信號，從而確保在很短的時間內采集數據。與其他背散射探測器不同，這種快速的探測器始終可保證良好的材料對比度，在導航時、傾斜時或工作距離很短時也不例外。在敏感樣品上，探測器的價值凸現出來，即使電流低至幾 pA，它也能提供清晰的背散射圖像。復合末級透鏡通過能量過濾實現更準確的材料對比度以及絕緣樣品的無電荷成像，進一步延伸了 T1 BSE 探測器的潛在價值。它還提供了流行選項來補充其探測能力，例如定向背散射探測器(DBS)、STEM 3+ 和低真空氣體分析探測器 (GAD)。所有這些探測器都擁有的軟件控制分割功能，以便根據需求選擇價值的樣品信息。
Apreo場發射掃描電子顯微鏡
都按標準配備各種用以處理絕緣樣品的策略，包括：高真空技術，例如 SmartSCAN™、漂移補償幀積分(DCFI) 和電荷過濾。對于挑戰性的應用，Apreo 可提供電荷緩解策略。其中包括可選的低真空（為 500 Pa）策略，通過經現場驗證的穿鏡式差分抽氣機構和低真空探測器，不但可以緩解任何樣品上的電荷，還能提供的分辨率和較大的分析電流。
隨著分析技術的使用越來越常規化，Apreo 倉室經過全新設計，以便更好地支持不同的配件和實驗。倉室多容納三個 EDS/WDS 端口，可實現快速敏感的 X 射線測量、共面EDS/EBSD/TKD 排列并與（冷凍）CL、拉曼、EBIC 和其他技術兼容。
所有這些功能都能通過簡單的樣品處理和熟悉的 xT UI 獲得，節省了新用戶和專家級用戶的時間。可自定義的用戶界面提供了諸多用戶指導、自動化和遠程操作選項。
