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公司介紹主營產品

位于中國上海浦東外高橋保稅區的伯東企業（上海）有限公司創建于1995年12月，, 是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業，公司注冊資金為200萬美元，到目前為止公司從業員工有400多人。
伯東企業（上海）有限公司真空產品事業部()專業銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管)；檢漏儀，質譜儀，真空系統等等, 維修技術力量雄厚，保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調整工具和德國Pfeiffer專業培訓工程師，多年來致力于真空系統的安裝、調試、維修、拆機、保養等，具有優良的專業技能和服務意識，并獲得原廠*維修資質證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源，HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質*、信譽*的原則，為廣大客戶提供了高品質的產品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001－2000質量體系認證、ISO14001－1996環境體系認證。公司將在今后的發展中秉承以人為本，不斷開拓進取的精神，為滿足客戶的需求努力向專業化、優質化、集團化發展。

為將國外的高科技產品與中國經濟和社會的飛速發展緊密結合，為促進國內.貿易的快速發展,伯東企業(上海)有限公司,以高科技推動現代化，以高質量服務全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業代理公司,代理上公司的半導體設備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承改革.創新.求真.發展的基本原則, 精心構建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優質的產品, 同時,提供全伯東集團網絡支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務,伯東公司愿意與世界各地的客戶聯手合作,共建一個誠信.發展.共同進步的良好環境.

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產地	進口	加工定制	是	適用領域	其他

上海伯東離子源典型應用: 射頻離子源 RFICP 325 安裝在 1650 mm 蒸鍍機中, 實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean, 完成 LED-DBR 鍍膜生產.射頻離子源典型應用 LED-DBR 輔助鍍膜

射頻離子源典型應用 LED-DBR 輔助鍍膜鍍膜機產品詳情

價格電議
KRI 射頻離子源典型應用 LED-DBR 輔助鍍膜
上海伯東美國 KRI 射頻離子源成功應用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場. 隨著對鍍膜品質要求的不斷提升, 使用霍爾離子源輔助鍍膜已經無法滿足鍍膜應用市場, 國內某 LED 制造商經過我司*采用射頻離子源 RFICP 325 安裝在 DBR 生產設備 1650 mm 蒸鍍機中. 成功實現光學鏡頭鍍膜并通過脫膜測試!

上海伯東射頻離子源客戶案例: 國內某 LED 制造商
1. 離子源應用: LED-DBR 鍍膜生產
2. 系統功能: 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國 KRI 射頻離子源 RFICP 325. 離子源 RFICP 325 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業界較高等級, 離子源 RFICP 325 特殊的柵極設計 E22 Grided 可以涵蓋 1650 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 substrate holder, 無論是生產良率或是均勻性都可達到生產效能.
4. 離子源功能: 通過射頻離子源 RFICP 325 實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能后, 所生產出的 LED-DBR 無論是亮度測試, 脫膜測試, 頂針測試, 光學特性等等… 都優于目前一般業界蒸鍍機所搭配的離子源.

上海伯東射頻離子源安裝案例: KRI RFICP 325 射頻離子源安裝于 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
上海伯東考夫曼離子源

KRI 射頻離子源測試案例: LED-DBR 脫膜測試.
1. 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試
上海伯東美國 KRI 離子源

2. 測試結果
上海伯東RFICP325脫模測試

--------- 使用其他品牌離子源--- --------------------- 使用美國考夫曼 KRI RFICP 325 離子源 ----------------------

從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國考夫曼離子源, 樣品無崩邊

上海伯東美國射頻離子源 KRI RFICP 325 優點:
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質
模塊化設計, 保養快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學膜后折射率
全自動控制設計, 操作簡易
低耗材成本, 安裝簡易

上海伯東是美國考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc 中國總代理. 美國考夫曼公司離子源已廣泛應用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請聯絡上海伯東葉小姐,分機109

射頻離子源典型應用 LED-DBR 輔助鍍膜
射頻離子源典型應用 LED-DBR 輔助鍍膜

關鍵詞：鍍膜機顯微鏡

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