無限遠半復消色差校正光學系統(CSIS),像質更好,分辨率更高。清晰的圖像質量和穩固可靠的機械結構,令操作更簡便,應用于教學科研金相分析、半導體硅晶片檢測、地質礦物分析、各類鍍層度膜等精密電子工程研發MX4R 金相顯微鏡微分干澀
■高眼點、超寬視野平場目鏡,PL10x/22mm,提供更加寬闊平坦的觀察空間并可加裝用于測量的各類測微尺。MX4R 金相顯微鏡微分干澀
■ 鉸鏈式雙目/三目/數碼一體化觀察筒,視度可調節,30°傾斜。 無限遠平場消色差超長工作距專業金相物鏡,無蓋玻片設計。
■粗微調同軸調焦機構,粗調行程28mm,微調精度0.002mm,帶有平臺位置上下調節機構,樣品高度可達78mm(反射)、28mm(透反射),帶有粗調松緊調節裝置和隨機限位裝置。
■照明系統:反射照明器帶斜照明裝置,可以再觀察細微組織結構時產生浮雕立體的特殊觀察效果。
■攝影攝像可對觀察圖像進行采集和保存,配置電腦和專業軟件實現圖像分析。
觀察方式 | 明場/暗場/偏光/微分干澀 |
光學系統 | 無限遠色差校正光學系統 |
目鏡 | PL10X/22平場高眼點目鏡 |
觀察筒 | 30°鉸鏈式三目,分光比,雙目=100:0或50:50 |
物鏡 | LMPL無限遠長工作距離金相物鏡5X、10X、20X、50X、100X(選購) |
倍率 | 50x、100x、200x、500x、(1000x選購) |
物鏡轉換器 | 內傾五孔明暗場轉換器,帶DIC插槽(可升級DIC觀察) |
粗微調焦機構 | 反射機架,大樣品高度78mm |
透反兩用機架,大樣品高度28mm | |
載物臺 | 4” 雙層機械移動平臺,行程105X105mm,帶金屬平板平臺,右手位X,Y移動手輪,配平臺接口 |
顯微鏡機架 | 粗微調同軸,粗調行程33mm,微調精度0.001mm,機構上行限位及松緊調節。內置90-~240V寬電壓變壓器,單路電源輸出 |
反射照明器 | 5WLED,白色,科勒照明 |
視場光闌、孔徑光闌,濾色片插槽、偏光裝置插槽、斜照明切換拉桿、 | |
透射照明器 | 單顆大功率5W LED ,白色亮度可調,N.A.05聚光鏡光闌可變 |