價格電議
美國 KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列
上海伯東美國*考夫曼
離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強設計輸出高質量,穩定的電子流.
美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準離子光學和開關式電源控制. 考夫曼
離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應用. 考夫曼離子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼離子源, 電子中和器, 電源供應器等等可以直接整合在各類真空設備中, 例如實驗室小型研發, 鍍膜機, load lock, 濺射系統, 卷繞鍍膜機和線性鍍膜.
美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 特性：
通過加熱燈絲產生電子
低電流高能量寬束型離子源
美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 應用：
輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD
濺鍍&蒸鍍 PC
表面改性, 激活 SM
沉積 DD
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE
美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術參數：
型號 | KDC10 | KDC40 | KDC75 | KDC100 | KDC160 |
電壓 | DC magnetic confinement | ||||
- 陰極燈絲 | 1 | 1 | 2 | 2 | 2 |
- 陽極電壓 | 0-100V DC | ||||
電子束 | 電子束 | ||||
- 柵極 | ,自對準 | ||||
- 柵極直徑 | 1 cm | 4 cm | 7.5 cm | 12 cm | 16 cm |
中和器 | 燈絲 | 燈絲 | 燈絲 | 燈絲 | 燈絲 |
電源控制 | KSC 1202 | KSC 1202 | KSC 1212 或 KSC 1202 | KSC 1212 | KSC 1212 |
配置 | - | ||||
- 陰極中和器 | LFN 1000 | LFN 1000 | LFN 2000 | LFN 2000 | LFN 2000 |
- 高度 | 4.5' | 6.75' | 7.9' | 9.25' | 9.92' |
- 直徑 | 1.52' | 3.5' | 5.5' | 7.6' | 9.1" |
- 離子束方向 | 聚焦 平行 散設 | 聚焦 平行 散設 | 聚焦 平行 散設 | 聚焦 平行 散設 | 聚焦 平行 散設 |
-加工材料 | 金屬 電介質 半導體 | 金屬 電介質 半導體 | 金屬 電介質 半導體 | 金屬 電介質 半導體 | 金屬 電介質 半導體 |
-工藝氣體 | 惰性 活性 混合 | 惰性 活性 混合 | 惰性 活性 混合 | 惰性 活性 混合 | 惰性 活性 混合 |
-安裝 | 2-12” | 6-18” | 6-24” | 8-36” | 8-45” |
KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列, 柵極燈絲型離子源, 通過加熱燈絲產生電子, 提供低電流高能量離子束. 離子束可選聚焦,平行, 散設三種方式, KDC 系列離子源適用于離子濺鍍和蒸發鍍膜 PC, 輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD, 表面改性, 激活 SM, 離子濺射沉積和多層結構 IBSD, 離子蝕刻 IBE 等.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產
考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.
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