UV光氧活性炭一體機(jī) 低溫等離子除臭設(shè)備簡介
UV光解活性炭一體機(jī)結(jié)合了UV光解氧化技術(shù)和活性炭吸附，相比分開的兩種設(shè)備，凈化效率更高，成本降低，可以處理多種有機(jī)廢氣和惡臭廢氣，如：醇類、醛類、苯類、氨氣等等有機(jī)廢氣和惡臭廢氣。
光氧化活性炭一體機(jī)
一：UV光氧活性炭一體機(jī) 低溫等離子除臭設(shè)備簡介
UV光解活性炭一體機(jī)結(jié)合了UV光解氧化技術(shù)和活性炭吸附，相比分開的兩種設(shè)備，凈化效率更高，成本降低，可以處理多種有機(jī)廢氣和惡臭廢氣，如：醇類、醛類、苯類、氨氣等等有機(jī)廢氣和惡臭廢氣。
UV光解氧化技術(shù)
光解氧化是指在一定波長光照條件下,半導(dǎo)體材料發(fā)生光生載流子的分離,然后光生電子和空穴在與離子或分子結(jié)合生成具有氧化性或還原性的活性自由基,這種活性自由基能將有機(jī)物大分子降解為二氧化碳或其他小分子有機(jī)物以及水,在反應(yīng)過程中這種半導(dǎo)體材料也就是光解劑本身不發(fā)生變化。 HJUV---系列TiO2光解催化氧化設(shè)備是我公司根據(jù)國內(nèi)外廢氣處理設(shè)備的*技術(shù)并在我公司多年生產(chǎn)光解催化氧化設(shè)備的基礎(chǔ)上，改進(jìn)的新一代TiO2光解催化氧化設(shè)備， 本產(chǎn)品利用UV紫外線技術(shù)(波段184.9nm-253.7nm)，產(chǎn)生臭氧，游離活性氧離子。通過高能紫外線光破壞降解分子鍵及協(xié)同分解氧化反應(yīng)去除有機(jī)污染物。
當(dāng)化學(xué)物質(zhì)通過吸收能量(如熱能、光子能量等)，可以使自身的化學(xué)性質(zhì)變得更加活躍甚至被裂解。當(dāng)吸收的能量大于化學(xué)鍵鍵能，即可使得化學(xué)鍵斷裂，形成游離的帶有能量的原子或基團(tuán)。當(dāng)波段內(nèi)的真空紫外線(波長范圍內(nèi)184.9nm-253.7nm)，促使有機(jī)廢氣物質(zhì)通過吸收該波段的光子，而該波段的光子能量大于絕大多數(shù)的化學(xué)鍵鍵能，使得有機(jī)物質(zhì)得以裂解;再通過裂解產(chǎn)生的臭氧將其氧化成簡單、無害、穩(wěn)定的物質(zhì)，如H2O和CO2等。
活性炭吸附技術(shù)
廢氣經(jīng)過吸附塔內(nèi)的初效過濾器除去固體顆粒物后，進(jìn)入塔體，經(jīng)過活性炭層吸附后，除去氣體中的有機(jī)廢氣分子，達(dá)到符合排放標(biāo)準(zhǔn)的凈化氣體，經(jīng)風(fēng)機(jī)排到室外
二：UV光氧活性炭一體機(jī) 低溫等離子除臭設(shè)備的特點(diǎn)：
1.占地面積小，體積小，自重輕。
2.結(jié)構(gòu)簡單，便于維護(hù)。
3.無需人工看管，可連續(xù)24小時運(yùn)行。
4.無需要添加任何化學(xué)物質(zhì)，開機(jī)即可運(yùn)行廢氣。
5.可以同時處理多種類型的廢氣。
三：UV光解活性炭一體適用于
塑料造粒廠、注塑機(jī)、化工廠、石油廠、制藥廠、油墨廠、印染廠、印刷廠等有機(jī)廢氣和惡臭氣體的企業(yè)。
