昆山國華等離子清洗機設備使用什么氣體

等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、涂覆等目的。

等離子體按照氣體來分可分為以下兩種：
活潑氣體和不活潑氣體等離子體：根據產生等離子體時應用氣體的化學性質不同， 可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類，不活潑氣體如氬氣（Ar）、氮氣 （N2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）和空氣等，活潑氣體如氧氣（O2）、氫氣（H2） 等，不同類型的氣體在清洗過程中的反應機理是不同的，活潑氣體的等離子體具有更強的化學反應活性。不同特性的氣體，它們用于清洗的污染物也須有不同選擇。 當一種氣體滲入一種或多種額外氣體時，這些元素的混合氣體組合，能產生我們所希望的蝕刻與清洗效果。借助等離子電漿中的離子或高活性原子，將表面污染物撞離或 形成揮發性氣體，再經由真空系統帶走，達到表面清潔的目的。等離子體形成過程，在高頻電場中處于低氣壓狀態的氧氣、氮氣、甲烷、水蒸氣等 氣體分子在輝光放電的情況下，可以分解出加速運動的原子和分子。這樣產生的電子在 電場中加速時會獲得高能量，并與周圍的分子或原子發生碰撞，結果使分子和原子中又 激發出電子，而本身又處于激發狀態或離子狀態，這時物質存在的狀態即為等離子體狀 態。在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外，還存在受到能量激勵狀態的電中性的 原子或原子團（又稱自由基），以及等離子體發射出的光線，其中波的長短、能量的高低在等離子體與物質表面相互作用時有著重要作用。

氮氣作為一種不活潑氣體，在等離子體清洗的過程中，主要作為非反應性氣體，氮等離子處理能提高材料的硬度和耐磨性。在某些情況下氮氣也能作為一種反應性氣體，形成氨的化合物。更多的情況下等離子清洗機中使用氮氣還是用作一種非反應性氣體。

  等離子清洗機由于其自身的特點在很多產品生產的過程中都有一席用武之地。在等離子清洗機工作清清洗的過程中，需要配合著不同的氣體，才能將等離子清洗機的清洗效果達到好。

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  按氣體分成：多使用的氣體之一就是惰性氣體氬氣（Ar），真空腔清洗過程中配合氬氣（Ar）往往可以有效得去除表面納米級污染物。經常應用在引線鍵合，芯片粘接銅引線框架，PBGA等工藝中。
  如果想增強腐蝕效果，就請通入氧氣（O2）。通過配合氧氣（O2）在真空腔清洗，可有效的去除有機污染昆山國華等離子清洗機設備使用什么氣體物，比如光刻膠等。通入氧氣（O2）比較多用于高精密的芯片粘接，光源清洗等工藝。
 還有一些比較難去除的氧化物可利用氫氣（H2）配合清洗，條件是要在密閉性非常好的真空情況下使用。還有一些特殊氣體類似于四氟化碳（CF4），六氟化硫（SF6）等，蝕刻和去除有機物的效果會更加顯著。但這些氣體的使用前提是要有耐腐蝕氣路和腔體結構，另外自己要戴好防護罩和手套才能工作。
 后要說的一種常用氣體就是氮氣（N2）。這種氣體主要是配合在線式等離子對材料表面活化和改性的應用。當然真空環境下也可以使用。氮氣（N2）是提高材料表面侵潤性的*。
 現在等離子清洗機通常為2路氣體，有時候我們會嘗試讓氣體去組合比例配合清洗，來達到不一樣的效果！