TMC CleanTop®系列光學平臺 森泉光電
CleanT,o,p®性能系列光學平臺有三個級別阻尼性能的產品，以及各種te,殊用例的配置選項。單個的光學平臺可以通過機械耦合，創建復雜的光學平臺形狀，而不損失阻尼性能。
TMC CleanTop®系列光學平臺 森泉光電
產品介紹
TMC的光學工作臺和隔離系統提供性能和剛度，這得益于其du,特的全鋼結構和目前市面上zui,高的核心密度和zui,小的蜂窩面積。
CleanT,o,p®性能系列光學平臺有三個級別阻尼性能的產品，以及各種te,殊用例的配置選項。單個的光學平臺可以通過機械耦合，創建復雜的光學平臺形狀，而不損失阻尼性能。
產品系列
784性能系列研究級CleanTop®光學平臺
特點：
提供zui,佳結構阻尼性能。
研究級的阻尼性能將zui,小的單元尺寸和zui,高的核心密度與du,特的CleanT,o,p®設計、全鋼結構和商業上可獲得的高水平的結構阻尼相結合。
推薦用于苛刻的應用，包括干涉儀，全息攝影，超快激光，以及嚴重的地板振動環境。
為了獲得整體振動控制，可以考慮將這個頂部與LaserTable-Base™支架結合，這是一種混合空氣/壓電的兩級振動xiao,除系統。
783性能系列科研級CleanTop®光學平臺
特點：
提供標準結構阻尼性能。
具有與研究級相同的設計特點，包括核心尺寸和密度，清潔頂杯，以及全鋼減振結構。
科研級阻尼的峰值合規水平約超過研究級阻尼的峰值合規水平4倍。
781性能系列實驗室級CleanTop®光學平臺
特點：
提供一般結構阻尼性能。
具有與研究級相同的設計特點，包括核心尺寸和密度，清潔頂杯，以及全鋼減振結構。
在不太嚴重的地板振動環境中，為敏感性一般的應用提供經濟的阻尼性能水平。
實驗室級CleanT,o,p®光學平臺適用于主要要求為剛性、平坦安裝表面的一般實驗室應用。
790系列超凈間定制
特點：
英制3/16孔，孔距5毫米，表層厚
兩級固定阻尼
每個沉頭孔下設置有獨立的密封杯
頂部，底部，側面均為不銹鋼
兼容潔凈室的設計和包裝
710系列無磁定制
特點：
1.0.0%采用304合金，316不銹鋼外殼(非磁性)。
0.165英寸厚的頂部和底部表層。
CleanT.o.p專有的防泄漏螺 紋孔設計。
TMC CleanTop®系列光學平臺 森泉光電
產品規格
核心：鋼蜂窩，封閉結構，0.2毫米厚金屬擋板
核心剪切模量：275,000 PSI (19300 kg/cm2)
鋼蜂單元尺寸：<0.5 in.2 (3 cm2)
鋼蜂密度：13.3 lb/ft3 (230 kg/m3)
平整度：整體螺紋孔周邊范圍內+/-0.13 mm，其余表面近60×60 cm的面積+/-0.1 mm。
頂部材質：400系列3/16英寸(5 mm)厚不銹鋼
790系列厚3/16英寸(5 mm) 厚不銹鋼
710系列3/16英寸(5 mm)厚316合金不銹鋼
側壁：涂有乙烯基的阻尼成形鋼槽
790系列內表面有阻尼的不銹鋼。
710系列內表面有阻尼的乙烯基復合材料。
沉頭孔：1英寸(25 mm)長CleanT,o,p尼龍杯（可選配鋼杯）
應用案例
森泉為您的科研事業添磚加瓦：
激光控制：激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設備與系統等等
探測器：光電探測器、單光子計數器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統等等
定位與加工：納米定位系統、微納運動系統、多維位移臺、旋轉臺、微型操作器等等
光源：半導體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等
光機械件：用于光路系統搭建的 gao 品 zhi 無應力光機械件，如光學調整架、鏡架、支撐桿、固定底座等等
光學平臺：主動隔振平臺、氣浮隔振臺、實驗桌、剛性工作臺、面包板、隔振、隔磁、隔聲綜合解決方案等等
光學元件：各類晶體、光纖、偏轉鏡、反射鏡、透射鏡、半透半反鏡、濾光片、衰減片、玻片等等
染料：激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發光染料、吸收染料等等
