一、產品名稱概述：
北京納米二氧化硅分散液研磨分散機，ox50納米氧化硅分散液分散機，連續式研磨分散機，改進型膠體磨研磨分散機
二、基本和物料介紹：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）
1.思峻（SGN）研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。
2.二氧化硅水分散體在拋光應用(CMP)、紙業(噴墨)或在玻璃生產中使用。出于經濟和實際應用原因，在這些應用中使用具有高二氧化硅粉末含量的分散體是理想的。
3.含有火焰水解反應工藝生產的二氧化硅并且不含穩定劑的水分散體僅在填充含量低于30重量％時表現出可接受的穩定性。當填充含量更高時，其在非常短的時間內發生凝結或沉降。
4.納米二氧化硅具有極小的粒徑、較大的比表面積和優良的化學性能，表現出良好的親水性、補強性、增稠性、消光性和防茹結性，因此廣泛應用于橡膠、涂料、醫藥、油墨等領域。由于粉體的納米二氧化硅的表面親水疏油，呈強極性，在有機介質中難以均勻分散，從而導致材料性能下降。
5.現有技術中，通常是在納米顆粒膠體物系中加入電解質、表面活性劑、聚電解質，使之吸附在顆粒表面是防止納米顆粒團聚生長的有效方法，這樣可以提高二氧化硅分散液的穩定性。但總體說來，通過加入電解質、表面活性劑、聚電解質作用針對分散相，并未實質與納米二氧化硅顆粒結合，因此導致其制備的分散液的分散性均不理想。
6.納米二氧化硅分散到液體之后，依據不同的分散體系，其外觀從白色乳狀到無色透明。從檢測上來看D90<100納米以下的體系，在外觀上都呈現視覺透明的狀態。納米的分散是一個世界性的技術難題。可喜的是目前出現了某些技術，使用某些納米顆粒可以解散到單分散的狀態。其中之一就有納米二氧化硅。
三、設備介紹：
1.上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SGN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前普通設備轉速的4-5倍。
2.研磨分散機的特點：
①線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
②定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
3.設備其它參數:
設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
4.從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：
①研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）
②研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
③研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）
④物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）
⑤循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）
5.線速度的計算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉子的線速率
在種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60
所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的
四、二氧化硅超高速研磨分散機參數表：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）
流量*
| 輸出
| 線速度
| 功率
| 入口/出口連接
| ||
類型
| l/h
| rpm
| m/s
| kW
|
| |
GMD 2000/4
| 300
| 9,000
| 23
| 2.2
| DN25/DN15
| |
GMD 2000/5
| 3000
| 6,000
| 23
| 7.5
| DN40/DN32
| |
GMD 2000/10
| 8000
| 4,200
| 23
| 22
| DN80/DN65
| |
GMD 2000/20
| 20000
| 2,850
| 23
| 37
| DN80/DN65
| |
GMD 2000/30
| 40000
| 1,420
| 23
| 55
| DN150/DN125
| |
GMD2000/50
| 120000
| 1,100
| 23
| 110
| DN200/DN150
| |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到zui大量的10%。
| ||||||
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和ZUI終產品的要求。
北京納米二氧化硅分散液研磨分散機，ox50納米氧化硅分散液分散機，連續式研磨分散機，改進型膠體磨研磨分散機
