Avesta光學(xué)頻率梳光梳合成器EFO-COMB
Avesta光學(xué)頻率梳光梳合成器EFO-COMB基于飛秒鎖模鉺摻雜PM光纖激光器，具有4個PM光纖耦合輸出，包括用于產(chǎn)生超連續(xù)譜的摻Er光纖放大器，以及帶有同步和鎖定電子器件的f-2f干涉儀。
全光纖PM方案
全天候運營
完整的單源頻梳系統(tǒng)
520-2200 nm全光譜覆蓋范圍
EFO-COMB光學(xué)頻率梳前面板
EFO-COMB光學(xué)頻率梳后面板
EFO-COMB光學(xué)頻率梳光梳合成器將飛秒鎖模摻鉺光纖激光器與4個光纖耦合激光器輸出，帶有超連續(xù)譜發(fā)生器的光纖放大器和f-2f干涉儀相結(jié)合。全PM光纖方案可確保系統(tǒng)不間斷運行。EFO-COMB可以為每種情況單獨配置單獨的控制架，包括控制和電源單元，相位偏移調(diào)諧單元，數(shù)據(jù)收集和可視化單元以及許多其他可能的選項。
該系統(tǒng)還可配備：1560 nm的光纖放大器，780 nm輸出的SHG單元，1000-2200 nm的超連續(xù)譜發(fā)生器，520-1000 nm的超連續(xù)譜發(fā)生器，差頻發(fā)生器（DFG）。
產(chǎn)品規(guī)格:
| 規(guī)格 | EFO-COMB |
| 梳齒間距 （Frep） | 100 MHz |
| 穩(wěn)定性（連接微波參考源） | <5·10 ^ -13@1s或與參考相同 |
| 調(diào)整梳齒間距范圍 | > 0.7 MHz |
| 調(diào)整偏移頻率Fceo的范圍 | > 100 MHz |
| 光輸出 | 2或4個光纖耦合輸出端口或準直自由空間輸出，1560 nm，520-1000 nm，1000-2200 nm 其他波長可根據(jù)要求提供（可選） |
| 中心波長（固定） | 1560±10nm |
| 全光譜覆蓋范圍（附加選項） | 520-1000 nm，1000-2200 nm，其他波長可根據(jù)要求提供 |
| 輸出功率 | 每個輸出> 5 mW; > 150 mW @ 1560 nm（可選）; > 200 mW @ 1000-2200 nm（可選）; > 80 mW @ 520-1000 nm（可選） |
| 光學(xué)單元尺寸（長x寬x高） | 356 x 492 x 110mm |
| 控制架尺寸（寬x長） | 640 x 553 mm（機架高度取決于精確配置） |
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