宏朗1200℃高溫真空CVD設備

單溫區管式爐、真空系統、質子流量計、射頻電源系統系統組成。混氣管式PECVD系統是為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，環境溫度在100-300℃，但反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解、離解和離化，從而大大提高了反應物的活性，這些具有反應活性的中性物質很容易被吸附到較次溫度的基本表面上，發生非平衡的化學反應沉積生成薄膜，因此這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）。

宏朗1200℃高溫真空CVD設備使用范圍

設備可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應用于*、高精模具、硬質涂層、裝飾等領域。

產品特點：

多晶纖維爐膛，節能耐腐蝕

重量輕、升溫速度快、節能、省時、耐高溫、耐腐蝕、保溫性好，能滿足何種快速燒結的要求。

爐管采用高純度石英玻璃材料工藝加工

具有極低的熱膨脹系數、耐高溫、化學穩定性好、電絕緣性好。

雙層內膽爐殼，配有風冷系統，快速升降溫

整個爐體采用雙層內膽式結構，中間有氣隙隔離，即使爐膛溫度高達1200℃，爐體表面仍然可以安全觸摸無滾燙感覺。

法蘭采用雙環密封技術

有效的提高了法蘭的氣氛性，法蘭上裝有多種接頭，可接電阻真空計、真空波紋管并能做成容易撤卸的鉸鏈式。

內嵌式合金電熱絲，升溫快，壽命長

加熱元件采用優質內嵌式合金電熱絲，發熱效率高、耐高溫、抗氧化、耐腐蝕、升溫快、壽命長、高溫變形小、安裝維修方便，使用壽命長。

微電腦PID控制器，操作簡便

操作簡便，控溫精確、可靠、安全多段可編程控制，可以簡化復雜的試驗過程，真正實現自動控制和運行。
爐體配有：輸出電壓和輸出電流監測表，爐子加熱狀態一目了然。

真空系統采用高真空分子泵組，性能

性能可靠：整體型復合轉子，強度高、性能穩定；
潔凈無油：采用脂潤滑精密陶瓷軸承，無油蒸汽污染。

技術參數：

可選配件：

質子流量計×1	真空系統×1	射頻電源×1
氣煉石英爐管×1	真空法蘭×1	防燙罩×2

可選配件：

液晶觸摸控制儀

 1．實現烤箱/電爐的升溫、保溫、降溫工藝過程全自動。
 2．工藝人員可以將幾段程序編制成1條控溫曲線，保存于觸摸屏內，帶密碼保護功能，可一次性編制多條曲線。
 3．具備斷電記憶功能，查詢已完成的工藝階段。
 4．現場操作人員需要調用某條溫控曲線時，直接輸入曲線序列號即可調用該條曲線，簡單方便，杜絕錯誤發生。
 5．具備多組歷史數據記錄功能。
 6．具備同時顯示多段溫度及時間功能。

全自動智能型水冷機

  1.制冷量達1800W，可選用環保冷媒；

  2.溫控精度可達±0.3℃；

  3.智能溫控器具有兩種溫控模式，適用于不同的使用場合；

  有多種設定和故障顯示功能；

  4.具有多種報警保護功能：壓縮機延時保護；壓縮機過流

  保護；水流報警；溫度超高/低報警；

  5.多國電源規格，CE、RoHS認證；

  6.長壽耐用，操作簡便；

  7.可選配加熱器和凈化水質配置。