一、產(chǎn)品簡介

微型電弧爐主要用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。

適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設備采用桌

面式結構，占地空間小。

二、產(chǎn)品特點

1、采用高純氬氣保護，zui高熔煉溫度可達3500℃

2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣，效率快及氬氣消耗非常少

3、水冷銅電極可移動，可同時熔煉多個樣品

4、水冷銅坩堝可方便拆卸

5、采用真空計測量真空，壓力傳感器和電磁閥保護爐內壓力

6、采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛

7、桌面式設計，占地空間小，特別節(jié)約實驗空間和能源

三、結構簡介

微型電弧爐由真空室、水冷電極、水冷銅模、氣路系統(tǒng)、坩堝升降系統(tǒng)、機殼和

熔煉電源組成。

1、真空室：采用304機加工件和厚壁石英管復合結構，既滿足高真空要求，又便

于觀察實驗情況。

2、水冷電極：頂部和底部放分別通有正負電極，頂部為機械手結構，可方便的

在幾個樣品之間移動，密封采用動密封裝置，保證在移動過程中的真空度。

3、水冷銅模：標準銅模中帶有一個12*φ25；5個4*φ8樣品鍋，另可根據(jù)客戶要

求定制；

4、氣路系統(tǒng)：由壓力傳感器、電磁閥、壓力罐、手動閥門和管路組成，可方便

的實現(xiàn)手動充放氣，還可實現(xiàn)超壓排氣，保護真空室安全。

5、坩堝升降系統(tǒng)：底部水冷銅模可實現(xiàn)上下升降，帶鎖緊裝置，可非常方便的

進出料。

6、機殼：結合國內外設備外觀經(jīng)驗，根據(jù)自身設備特點，設計出合理機殼，外

表噴塑處理；

7、熔煉電源：定制的電弧熔煉電源，操作簡單，結構小巧；