概況：　

      BHQC型全程綜合水處理器是本公司針對工業及民用用水系統普遍存在的結垢、腐蝕、菌藻滋生、水質污染、重金屬超標等問題，開發的新一代高效綜合水處理設備。該設備 利用數碼射頻效應場、活性過濾層及機械變徑阻擋層三位一體的綜合過濾、吸附體系，使一臺設備具有對水質綜合優化處理功能，從而達到防垢除垢、殺菌滅藻、除 銹緩蝕、超凈過濾凈化水質的功效。具有機電一體化設計、流量大、純物理法處理、無需添加化學藥劑、操作簡單、維護方便、使用壽命可達20年以上等諸多優點。全程綜合水處理器主要由射頻發生器、活性過濾體、射頻轉換器、換能器等幾部分組成。射頻發生器由電源、美國進口MOTO集成模塊、散熱器等組成。

工作原理：

 1、防垢除垢：
     水垢形成的主要原因是水中 含有鈣、鎂等碳酸鹽類，受熱后溶解度降低，Ca2+、Mg2+等陽離子與CO3-等陰離子結合形成CaCO3、MgCO3分子，多個CaCO3、 MgCO3分子通過分子間力結合在一起沉淀、吸附在用水器壁上形成水垢。在實際運行工況下，各用水系統形成的水垢，均為復合垢（硬度垢和污垢的混合物）。 全程綜合水處理器的設計原理就是通過控制“硬度垢和污垢”兩方面綜合起來解決復合水垢問題。首先通過活性過濾層、機械變徑阻擋層及射頻效應場三位一體的綜 合過濾體，來吸附、濃縮水中易形成水垢的雜質，降低其濃度，達到控制污垢及大部分硬度垢的目的。再通過射頻換能器將特定頻率的電能轉換為被處理介質水分子 的內能，水的活性大大提高，滲透力、攜帶力增強，從而達到除垢防垢的目的。全程綜合水處理器可在系統正常運行的狀態下完成防垢、除垢、脫色、控制二次污 染，對水中的雜質進行吸附濃縮、排污的全程綜合優化處理。
2、殺菌滅藻：
    全程綜合水處理器是由活性過 濾層、機械變孔徑阻擋層及射頻效應場三位一體的綜合過濾體系能濾掉水中絕大部分雜質，水的凈度大大提高，這就破壞了菌藻類微生物生存繁殖的環境。高頻電磁 場中的高頻電磁波、電場微電流及活性水分子中的電子都對菌藻類微生物有*的殺傷力，破裂其細胞壁，并直接破壞其賴以生存的酶系統，阻止其吸收葡萄糖，停 止其新陳代謝，達到殺滅去除的目的。故全程綜合水處理器可在系統正常運行的狀態下完成殺菌、滅藻、脫色、控制二次污染，對水中的雜質進行吸附濃縮、排污的 全程綜合優化處理。
3、 防腐超凈：
    用水系統金屬器壁的腐蝕，從 原理上講是“微電池效應”的電化學腐蝕。全程綜合水處理器的工作原理就是削弱抑制微電池效應。*利用特定頻率轉換，依據“附肌效應”原理在水管內壁形成 動態的負電荷富態層，逐漸削弱、抑制電化學腐蝕。使其腐蝕產物Fe2O3，轉化為穩態Fe3O4，達到以銹制 銹的效果。第二利用活性過濾體、機械變徑阻擋層及射頻效應場三位一體的綜合過濾體系來吸附、濃縮，排除水中的Fe2+、Ｃa2+，懸浮物、沉淀物等雜質， 使水質濁度、色度降低，zui終達到降低電化學腐蝕的首要條件電解質的電導率的目的。使其腐蝕速率大幅度降低。故全程綜合處理器在系統正常運行的狀態下能完成 防腐、除銹、脫色、控制二次污染，對水中的雜質進行吸附濃縮、排污的全程綜合優化處理。

 技術參數：

    控制腐蝕率：＜0.0091毫米／年，過濾效率＞92%， 防垢除垢效率＞96%，殺菌滅藻>97% 
  壓 力 損 失：＜0.05MPa
  工作環境要求：溫度：-25℃～+50℃      相對濕度:<95%
  介 質 溫 度：0℃～98℃

設備選型：

 1、可根據用水系統存在的實際問題來選擇設備的種類。如：某一冷凍循環水系統正常運行三年后，發現存在較嚴重的水質問題：冷凍水色度、濁度大、風機盤管堵塞，換熱效率下降。用戶感覺制冷能力降低。則應選擇全程綜合水處理器或選擇“黃銹水處理器” 兩種設備。  

 2、用戶提供被處理系統的水質分析報告，項目：色度、濁度、懸浮物含量、污染種類、溫度、PH值、溶解氧、Fe，本公司免費提供設計方案和選擇設備，以達到處理效果。  

 3、選型原則：

       1)根據用水系統安裝部位的管徑來選型，如用水系統管徑200mm，可選擇進出水口管徑為200mm的設備。

       2) 外形參數表中的水處理量為處理流量范圍，若按處理量選型，則應取zui大和zui小處理量的平均值，以免造成由于系統管徑與設備進出水口口徑的不同而引起的局部阻力增加。

       3) 設備的壓力、溫度、結構形式，視系統的實際情況選定，被處理系統的壓力、溫度應取zui大值。

 4、安裝形式及位置：

       1) 總管原則：“全程綜合水處理器”應安裝在進水總管道上，過濾吸附雜質。即控制進水品質。

       2) 獨立原則：“全程綜合水處理器”原則上每個獨立系統應分別安裝。如：冷凍、冷卻循環水系統，應分別安裝在回水或供水總管道上。

       3) 設備應安裝在用水系統的zui低處或回水管道（循環系統）。被安裝系統的運行壓力應大于0.25MPa,以滿足排污的需要。

       4) 應以旁通形式安裝，以便排污及維修。

安裝使用：

    1、設備主體頂端與旁通管或構筑物間的距離應大于400mm

     2、設備主體zui大外徑距墻體距離應大于400mm。

     3、設備安裝形式應為旁通式安裝，以滿足不停機狀態下檢修設備和反沖洗濾體。 

     4、禁止在無水狀態下長時間開啟設備。

     5、設備操作須知： 

       1) 排污：當進、出水口壓差達到0.02~0.03MPa時，就應進行反沖洗排污。當水質差或新系統初次使用時，每3小時反沖洗1次。正常運行后，反沖洗視水質情況而定。

       2) 反洗：打開主干閥、排污閥，關閉設備進水閥，zui后關閉220V電源，水流反沖洗濾體，可復活濾體。反洗時間視水質情況而定，一般情況下10~30秒。 

       3) 對于污染嚴重的系統，應采用氣、水混合反沖洗復活濾體。當進口壓力小于0.25MPa 時，應單獨設置排污泵，增大反洗力度，減少排污量。

       4) 復活濾體后工作狀況：進出水口壓差恢復到原壓差值。 

       5) 返回工作狀態，首先接通220V電源，關閉排污閥；再打開進水閥，關閉主干閥。